[發明專利]飛秒激光干法刻蝕加工氮化鎵的方法有效
| 申請號： | 202011489533.2 | 申請日： | 2020-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN112719607B | 公開（公告）日： | 2023-02-03 |
| 發明（設計）人： | 歐艷;付斯倚;李圣;錢錦文;肖逸鋒;吳靚;張明華 | 申請（專利權）人： | 湘潭大學 |
| 主分類號： | B23K26/362 | 分類號： | B23K26/362;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 411105 湖南省湘*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 激光 刻蝕 加工 氮化 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種飛秒激光輔助干法刻蝕加工氮化鎵的方法，其特征在于：具體步驟如下：
步驟一、搭建飛秒激光微加工系統，選用中心波長為800nm，重復頻率為1kHz，脈沖寬度為30fs的飛秒激光，通過一個數值孔徑為0.5的物鏡聚焦到固定在三維平移臺上的氮化鎵樣品表面；
步驟二、調控作用在氮化鎵表面的飛秒激光脈沖數為1000個，脈沖能量為8mW，加工點間隔為20μm；
步驟三、將飛秒激光加工后的氮化鎵樣品分別在丙酮、乙醇和去離子水中超聲清洗5分鐘，去除激光燒蝕產生并散落在樣品表面的顆粒；
步驟四、將清洗好的樣品放置在感應耦合等離子刻蝕系統的刻蝕腔中，在Cl2和BCl3的混合氣體的等離子體環境下，通過控制刻蝕參數，實現氮化鎵材料微結構的干法刻蝕加工；
步驟五、將刻蝕后的氮化鎵分別在丙酮、乙醇、去離子水中超聲清洗5分鐘，即可得到一塊具有微結構陣列的樣品；ICP干法刻蝕具體加工參數如下：調控氣體總流量為35sccm，Cl2的氣體流量為10sccm，BCl3的氣體流量為25sccm；設置ICP干法刻蝕的ICP功率為500W，RF功率為100W，反應腔壓力為10mTorr，溫度為25℃，刻蝕時間為40min；飛秒激光所加工的微孔結構處周圍的氮化鎵材料被ICP刻蝕去除掉，形成一個小凸臺結構。
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