[發(fā)明專利]半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu)和其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011487249.1 | 申請日: | 2020-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN112992816A | 公開(公告)日: | 2021-06-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 詹雅芳;蔣源峰;呂柏緯 | 申請(專利權(quán))人: | 日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/367 | 分類號: | H01L23/367;H01L23/485;H01L23/31;H01L21/50;H01L21/56 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 蕭輔寬 |
| 地址: | 中國臺灣高雄市楠梓*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 封裝 結(jié)構(gòu) 制造 方法 | ||
1.一種半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu),其包括:
第一半導(dǎo)體設(shè)備,所述第一半導(dǎo)體設(shè)備包含第一主動表面和與所述第一主動表面相對的第一背面;
第二半導(dǎo)體設(shè)備,所述第二半導(dǎo)體設(shè)備包含第二主動表面和與所述第二主動表面相對的第二背面;
第一導(dǎo)熱層,所述第一導(dǎo)熱層嵌入所述第一半導(dǎo)體設(shè)備的所述第一背面中;
第二導(dǎo)熱層,所述第二導(dǎo)熱層嵌入所述第二半導(dǎo)體設(shè)備的所述第二背面中;以及
第三導(dǎo)熱層,所述第三導(dǎo)熱層被安置成鄰接所述第一導(dǎo)熱層并且延伸到所述第一半導(dǎo)體設(shè)備的所述第一主動表面,
其中所述第一半導(dǎo)體設(shè)備的所述第一背面和所述第二半導(dǎo)體設(shè)備的所述第二背面彼此接觸,并且其中所述第一導(dǎo)熱層的至少一部分與所述第二導(dǎo)熱層接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu),其中所述第三導(dǎo)熱層貫穿所述第一半導(dǎo)體設(shè)備。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu),其中所述第三導(dǎo)熱層連接到所述半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu)外部的散熱設(shè)備。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu),其中所述第一半導(dǎo)體設(shè)備的所述第一背面包括第一凹槽,所述第二半導(dǎo)體設(shè)備的所述第二背面包括第二凹槽,所述第一導(dǎo)熱層形成于所述第一凹槽中,并且所述第二導(dǎo)熱層形成于所述第二凹槽中。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu),其中所述第一凹槽由所述第一導(dǎo)熱層填充,并且所述第二凹槽由所述第二導(dǎo)熱層填充。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu),其中所述第一導(dǎo)熱層與所述第二導(dǎo)熱層一起形成中空導(dǎo)熱管。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu),其中所述第一導(dǎo)熱層、所述第二導(dǎo)熱層或兩者具有蛇形形狀。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu),其中所述第一導(dǎo)熱層和所述第三導(dǎo)熱層形成為一體。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu),其中所述第三導(dǎo)熱層安置在所述第一半導(dǎo)體設(shè)備的外部并且鄰近所述第二半導(dǎo)體設(shè)備的側(cè)面。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu),其中所述第三導(dǎo)熱層是中空導(dǎo)熱管。
11.一種半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu),其包括:
根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu);
第一重新分布層RDL,所述第一RDL安置在所述第一半導(dǎo)體設(shè)備的所述第一主動表面之上并且包括貫穿所述第一RDL的熱連接元件;以及
散熱設(shè)備,所述散熱設(shè)備安置在所述第一RDL之上,
其中所述半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu)的所述第三導(dǎo)熱層通過所述第一RDL的所述熱連接元件連接到所述散熱設(shè)備。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu),其中所述第一半導(dǎo)體設(shè)備包括導(dǎo)電柱,并且所述導(dǎo)電柱將所述第一半導(dǎo)體設(shè)備電連接到所述第一RDL。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu),其進(jìn)一步包括第三半導(dǎo)體設(shè)備,所述第三半導(dǎo)體設(shè)備安置在所述第一RDL之上。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu),其中第三半導(dǎo)體設(shè)備安置在所述散熱設(shè)備之下。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu),其進(jìn)一步包括第二重新分布層RDL,所述第二RDL安置在所述半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu)之下。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu),其進(jìn)一步包括包封料,所述包封料包封所述半導(dǎo)體散熱結(jié)構(gòu)。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的半導(dǎo)體封裝結(jié)構(gòu),其進(jìn)一步包括互連元件,所述互連元件貫穿所述包封料并電連接到所述第一RDL和所述第二RDL。
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