[發明專利]一種小凈距多孔洞暗挖隧道近接施工方法有效
| 申請號: | 202011487119.8 | 申請日: | 2020-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN112593946B | 公開(公告)日: | 2023-10-24 |
| 發明(設計)人: | 孟昭暉;王松;楊建輝;孫輝;陳長根;呂金生;李柏青;許凱;郭水;郭奇峰;張斌;高鵬宇;王森 | 申請(專利權)人: | 北京市政建設集團有限責任公司 |
| 主分類號: | E21D9/00 | 分類號: | E21D9/00;E21D11/10;E21D11/15 |
| 代理公司: | 北京律譜知識產權代理有限公司 11457 | 代理人: | 李硯明 |
| 地址: | 100176 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 小凈距 多孔 洞暗挖 隧道 施工 方法 | ||
本發明涉及一種小凈距多孔洞暗挖隧道近接施工方法,其包括:對在一個注漿循環長度區間范圍的暗挖隧道進行深孔注漿加固;采用跨洞施工方式,對已完成加固的每個注漿循環長度區間范圍的暗挖隧道進行土方開挖;對相鄰的小凈距多孔洞暗挖隧道進行土體加固處理;對完成土體加固后的小凈距多孔洞暗挖隧道進行初支支護;并對完成初支支護的暗挖隧道噴射混凝土,形成初襯防護結構;在上一個注漿循環長度區間內靠近其末端設定重疊區域(9),并以該重疊區域前端為基準計算下一個注漿循環長度區間,然后依次完成所有隧道的初襯防護結構;等待初襯防護穩固后,進行二襯施工。本發明能有效控制拱頂沉降和地表沉降,從而能夠保證施工安全、土體的穩定性。
技術領域
本發明涉及技術領域,尤其涉及一種小凈距多孔洞暗挖隧道近接施工方法。
背景技術
在我國現有的隧道施工中,對于雙洞并行小凈距隧道工程實踐與理論分析已有了較多的成果,然而小凈距四洞并行隧道在工程實踐中并不多見,仍是隧道設計施工中的一個難題。
針對超小凈距四洞并行隧道,由于其開挖土洞之間的凈距過小(隧道間凈距<2m),如果采用順次施工,則容易影響相鄰土洞的穩定性,不僅施工風險大,而且施工緩慢。
因此在遇到超小凈距四線乃至更多線并行地鐵隧道暗挖施工時,如何提高注漿加固效果、優化施工步序、保證施工質量和施工安全等問題的研究就顯得十分必要。
發明內容
本發明的目的是為了克服現有技術存在的技術問題,提供一種小凈距多孔洞暗挖隧道近接施工方法,通過該發明能夠有效地控制拱頂沉降和地表沉降,從而在施工過程中能夠保證小凈距隧道近接圍巖的穩定性。
本發明的目的通過如下技術方案實現:
本發明提供一種小凈距多孔洞暗挖隧道近接施工方法,其包括:
步驟S10,對在一個注漿循環長度區間范圍的暗挖隧道進行深孔注漿加固;
步驟S20,采用跨洞施工方式,對已經完成深孔注漿加固的每個注漿循環長度區間范圍的暗挖隧道進行土方開挖;
步驟S30,對相鄰的小凈距多孔洞暗挖隧道進行土體加固處理;
步驟S40,對完成土體加固后的小凈距多孔洞暗挖隧道進行初支支護;并對完成初支支護的暗挖隧道噴射混凝土,形成初襯防護結構;
步驟S50,在上一個注漿循環長度區間內靠近其末端設定重疊區域,并以該重疊區域前端為基準計算下一個注漿循環長度區間,然后按照步驟S10~步驟40完成所有隧道的初襯防護結構;
步驟S60,等待初襯防護結構穩固后,進行二襯施工。
更優選地,所述步驟S10包括:
在多線開挖隧道土洞的明挖段內,正對著暗挖區間隧道迎土面并在其前端設置鋼筋網,并噴射砼形成封閉掌子面加固層;
正對著掌子面加固層,向暗挖區間隧道土層斜向外方向呈放射形開多個注漿孔,使得注漿孔延伸區域覆蓋隧道加固擬合內邊線和加固擬合外邊線之間的范圍;
利用調整好的一定配比的漿液和注漿壓力,順著注漿孔注漿。
更優選地,所述隧道加固擬合內邊線距離開挖輪廓線內第一設定距離,隧道加固擬合外邊線距離開挖輪廓線外第二設定距離。
更優選地,從暗挖區間隧道橫斷面看,掌子面加固層上的注漿孔呈梅花形布置。
更優選地,所述步驟20包括:
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