[發(fā)明專利]工件表面著色工藝

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011486261.0
• 申請(qǐng)日: 2020-12-16
• 公開（公告）號(hào): CN112813387A
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 成林
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山浦元真空技術(shù)工程有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/16
• 分類號(hào): C23C14/16;C23C14/02;C23C14/35;C23C14/58;C25D11/04;C25D11/18
• 代理公司: 昆山中際國(guó)創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32311
• 代理人: 尤天珍

1.一種工件表面著色工藝，其特征在于：具體步驟如下：

步驟一：對(duì)工件表面進(jìn)行真空電鍍，在工件表面形成一層能夠陽(yáng)極氧化的鍍膜層；

步驟二：將電鍍完成的工件放入陽(yáng)極氧化池進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理，在鍍膜層表面形成多孔結(jié)構(gòu)的氧化膜層；

步驟三：在氧化膜層表面進(jìn)行染色處理，使工件表面得到需要的顏色。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件表面著色工藝，其特征在于：所述步驟一中對(duì)工件表面進(jìn)行真空鍍鋁，在工件表面形成一層鋁膜層，步驟二中在鋁膜層表面氧化形成氧化鋁膜層。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的工件表面著色工藝，其特征在于：所述鋁膜層厚度≧50um。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的工件表面著色工藝，其特征在于：所述步驟一種真空電鍍采用電阻蒸發(fā)鍍、磁控濺射鍍和電弧離子鍍中的任意一種工藝。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件表面著色工藝，其特征在于：所述步驟一中對(duì)工件表面進(jìn)行真空電鍍前，先對(duì)工件表面進(jìn)行前處理，將工件表面的雜質(zhì)和油污進(jìn)行清潔。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的工件表面著色工藝，其特征在于：對(duì)工件進(jìn)行清潔步驟如下：

a.將工件放入真空爐內(nèi)，將真空爐腔體真空度抽到2*10-1Pa，啟動(dòng)陽(yáng)極層離子源對(duì)工件表面進(jìn)行離子清洗；

b.向真空爐內(nèi)充入氬氣150sccm，腔體真空度維持在7*10-1Pa，離子源設(shè)定電流0.8A、電壓1000V，清洗時(shí)間10分鐘。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件表面著色工藝，其特征在于：還設(shè)有以下步驟：

步驟四：將著色后的工件進(jìn)行水洗；

步驟五：將工件進(jìn)行烘干。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件表面著色工藝，其特征在于：所述真空電鍍步驟如下：

(1)給真空爐的腔體抽真空到6*10-3Pa時(shí)，開啟磁控濺射靶鍍鉻打底；

(2)給真空爐腔體充入氬氣100sccm，腔體真空度維持在3.5*10-1Pa，靶直流電源設(shè)定電流15A、偏壓電源設(shè)定電壓100V，鍍鉻打底時(shí)間10分鐘；

(3)關(guān)閉磁控鉻靶，開啟磁控鋁靶進(jìn)行表面鍍鋁；

(4)給真空爐腔體充入氬氣100sccm，腔體真空度維持在3.5*10-1Pa，靶中頻電源設(shè)定電流20A、偏壓電源設(shè)定電壓80V，鍍鋁時(shí)間90分鐘。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件表面著色工藝，其特征在于：步驟二中陽(yáng)極氧化處理采用直流電流陽(yáng)極氧化、交流電流陽(yáng)極氧化或脈沖電流陽(yáng)極氧化。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件表面著色工藝，其特征在于：步驟二中陽(yáng)極氧化處理時(shí)，工件浸入電解液的預(yù)設(shè)速度為勻速或變速。