[發(fā)明專利]一種基于隨機濾波器陣列的近紅外光譜儀實現(xiàn)方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011485640.8 | 申請日: | 2020-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN112461366B | 公開(公告)日: | 2021-12-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | 賈利紅;閆曉劍;何濤 | 申請(專利權)人: | 四川長虹電器股份有限公司 |
| 主分類號: | G01J3/28 | 分類號: | G01J3/28;G01J3/02 |
| 代理公司: | 四川省成都市天策商標專利事務所(有限合伙) 51213 | 代理人: | 趙以鵬 |
| 地址: | 621000 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 隨機 濾波器 陣列 紅外 光譜儀 實現(xiàn) 方法 | ||
1.一種基于隨機濾波器陣列的近紅外光譜儀實現(xiàn)方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1:設定濾波器的個數(shù)為M,波段數(shù)為N,M和N均為正整數(shù);
步驟2:生成均值為4的均勻隨機矩陣R;
步驟3:獲得濾波器的薄膜厚度的隨機矩陣d;
步驟4:生成傳輸函數(shù)t(λ);
步驟5:生成M*N傳輸函數(shù)矩陣T;
步驟6:得到原始光譜y;
步驟7:構造Hadamard掃描矩陣S,計算出掃描光譜Z;
步驟8:根據(jù)Hadamard掃描逆變換求得yfinal;
所述步驟4中,其中,ρTE、ρTM由以下遞推公式求得:
βk=2πcos(θk)nkdk/λ;
dk為薄膜的厚度,θk為入射光穿過薄膜時與法線的角度,ηk為薄膜的折射率。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種基于隨機濾波器陣列的近紅外光譜儀實現(xiàn)方法,其特征在于,所述步驟2中,R=8*rand(sprt(M),sprt(M))。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種基于隨機濾波器陣列的近紅外光譜儀實現(xiàn)方法,其特征在于,所述步驟3中,d=λcenter/R。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種基于隨機濾波器陣列的近紅外光譜儀實現(xiàn)方法,其特征在于,所述步驟5中,
5.根據(jù)權利要求1所述的一種基于隨機濾波器陣列的近紅外光譜儀實現(xiàn)方法,其特征在于,所述步驟6中,y=Tx,其中,x為照射在目標物上的入射光。
6.根據(jù)權利要求1所述的一種基于隨機濾波器陣列的近紅外光譜儀實現(xiàn)方法,其特征在于,所述步驟7中,Z=y(tǒng)*S,構造Hadamard掃描矩陣S的步驟如下:
步驟7.1:設定模式n的值;
步驟7.2:Paley構造生成矩陣P;
步驟7.3:剔除P矩陣中的第一行和第一列:
步驟7.4:剔除P矩陣中大于n的列;
步驟7.5:得出S=1/2*(P-1);
步驟7.6:重置矩陣列。
7.根據(jù)權利要求1所述的一種基于隨機濾波器陣列的近紅外光譜儀實現(xiàn)方法,其特征在于,所述步驟1中,S矩陣大小size應滿足以下條件:
size≥n+1,本實例中模式數(shù)量n=8;
size必須是4的整數(shù)倍;
size-1必須為素數(shù)。
8.根據(jù)權利要求1所述的一種基于隨機濾波器陣列的近紅外光譜儀實現(xiàn)方法,其特征在于,所述步驟8中,yfinal=Z*S-1,其中,S-1為矩陣S的逆矩陣。
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