[發(fā)明專利]電子束輔助真空電掃超音速沉積噴槍

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011485629.1
• 申請(qǐng)日: 2020-12-15
• 公開（公告）號(hào): CN112718290B
• 公開（公告）日: 2022-11-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周留成;何衛(wèi)鋒;延黎;柳平;苗卓廣;林敏;羅思海;李玉琴;安志斌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)人民解放軍空軍工程大學(xué);重慶交通大學(xué)綠色航空技術(shù)研究院
• 主分類號(hào): B05B7/16
• 分類號(hào): B05B7/16;B05B16/20;B05D3/14
• 代理公司: 北京海虹嘉誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11129
• 代理人: 呂小琴

1.一種電子束輔助真空電掃超音速沉積噴槍，其特征在于：包括冷噴頭、高能電子束發(fā)射器以及電子束控制裝置，所述電子束控制裝置安裝于高能電子束發(fā)射器出射口處用于控制電子束的發(fā)射方向，以使得電子束與冷噴頭噴射方向匯聚于一點(diǎn)；

所述冷噴頭包括順序設(shè)置的送粉裝置、靜電發(fā)生裝置、拉瓦爾噴管、噴嘴以及偏轉(zhuǎn)線圈Ⅰ，所述靜電發(fā)生裝置用于使送粉裝置中送出的粉末粒子帶電，所述拉瓦爾噴管中通入高壓氣體用于使帶電粒子加速并使得加速后的粒子通過噴嘴噴出，所述偏轉(zhuǎn)線圈Ⅰ設(shè)置于噴嘴出口端用于控制帶電粒子束的噴射方向；

所述冷噴頭還包括設(shè)置于送粉裝置出口側(cè)用于對(duì)粒子進(jìn)行加熱的加熱裝置；

所述冷噴頭還包括加速裝置，所述加速裝置設(shè)置于拉瓦爾噴管出口側(cè)，所述加速裝置具有加速電場(chǎng)用于使帶電粒子加速并使得加速后的粒子通過噴嘴噴出。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子束輔助真空電掃超音速沉積噴槍，其特征在于：電子束控制裝置為安裝于高能電子束發(fā)射器出射口處的偏轉(zhuǎn)線圈Ⅱ，所述偏轉(zhuǎn)線圈Ⅱ用于控制電子束以使得電子束實(shí)時(shí)與噴嘴噴出的帶電粒子束匯聚于一點(diǎn)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子束輔助真空電掃超音速沉積噴槍，其特征在于：所述拉瓦爾噴管出口端設(shè)置有用于使帶電粒子束聚焦的一級(jí)磁透鏡，所述加速裝置設(shè)置于一級(jí)磁透鏡出口端側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子束輔助真空電掃超音速沉積噴槍，其特征在于：所述噴嘴外接有使粒子束聚焦的二級(jí)磁透鏡，所述偏轉(zhuǎn)線圈Ⅰ安裝于二級(jí)磁透鏡出口端。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子束輔助真空電掃超音速沉積噴槍，其特征在于：所述冷噴頭還包括殼體，所述送粉裝置連接于殼體頂部用于將粉末送至殼體內(nèi)部，所述噴嘴設(shè)置于殼體底部并豎向正對(duì)送粉裝置出口端，所述殼體上設(shè)置有用于為拉瓦爾噴管通入高壓氣體的進(jìn)氣口。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電子束輔助真空電掃超音速沉積噴槍，其特征在于：

所述殼體上還開設(shè)有用于抽出氣體以使殼體內(nèi)形成近真空環(huán)境的抽氣口。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電子束輔助真空電掃超音速沉積噴槍，其特征在于：所述殼體內(nèi)腔通過絕緣板分隔為上腔室、中部腔室和下腔室，所述拉瓦爾噴管設(shè)置于中部腔室內(nèi)并使得上腔室和下腔室連通，所述送粉裝置底部具有用于引導(dǎo)粒子流動(dòng)的送粉管，所述送粉管經(jīng)上腔室向下延伸至拉瓦爾噴管進(jìn)口端，所述加熱裝置設(shè)置于上腔室內(nèi)，所述加速裝置設(shè)置于下腔室內(nèi)用于使得拉瓦爾噴管噴出的粒子束加速，所述噴嘴設(shè)置于下腔室底部使得加速后的粒子束經(jīng)過噴嘴噴出，所述進(jìn)氣口連通于中部腔室或下部腔室。