[發明專利]一種抑制劑多級霧化裝置

在審

• 申請號: 202011485143.8
• 申請日: 2020-12-16
• 公開（公告）號: CN112718287A
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: 劉斌;田文豪;楊偉;程慶利;趙宗斌;王緒鵬
• 申請（專利權）人: 青島諾誠化學品安全科技有限公司
• 主分類號: B05B7/04
• 分類號: B05B7/04;B65D90/22
• 代理公司: 青島智地領創專利代理有限公司 37252
• 代理人: 肖峰

1.一種抑制劑多級霧化裝置，其特征是，包括霧化器殼體、一級霧化器、二級霧化器；

所述一級霧化器為二流體霧化器，所述二級霧化器為文丘里霧化器；所述二流體霧化器、文丘里霧化器集成在霧化器殼體內；

所述霧化器殼體呈箱體結構；

所述文丘里霧化器包括支撐在霧化器殼體內側底部的文丘里管，所述文丘里管的喉部進氣端與主進氣管相連通，所述主進氣管的進氣口固定設置在霧化器殼體的外端面上；所述霧化器殼體的一側壁上設置有與文丘里管擴散段相連通的出口接管，所述霧化器殼體的另一側壁上設置有與文丘里管入口段相連通的入口接管；

所述二流體霧化器包括二流體噴頭，所述二流體噴頭位于文丘里管喉部的中心位置處；所述二流體噴頭的進液口設置有二流體進液管，所述二流體進液管的另一端與設置在霧化器殼體側壁上的進液接口相連；所述二流體噴頭的進氣口設置有二流體進氣管，所述二流體進氣管的另一端通過三通與主進氣管相連，所述二流體進氣管靠近三通的端部設置二流體閥門。

2.如權利要求1所述的抑制劑多級霧化裝置，其特征是，所述二流體閥門為氣動閥門。

3.如權利要求1所述的抑制劑多級霧化裝置，其特征是，所述三通前端的主進氣管上設置有主進氣閥門。

4.如權利要求1所述的抑制劑多級霧化裝置，其特征是，所述霧化器殼體頂部的端面上設置有用來測量三通前端主進氣管內氣流壓力的總壓力表。

5.如權利要求1所述的抑制劑多級霧化裝置，其特征是，位于文丘里管外部的二流體進氣管上設置噴嘴壓力調節閥。

6.如權利要求5所述的抑制劑多級霧化裝置，其特征是，所述霧化器殼體頂部的端面上設置有用來測量噴嘴壓力調節閥后端二流體進氣管內氣流壓力的噴嘴壓力表。