[發明專利]一種穩定產生氣相痕量元素或其化合物的裝置及其應用在審
| 申請號： | 202011484920.7 | 申請日： | 2020-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN112683617A | 公開（公告）日： | 2021-04-20 |
| 發明（設計）人： | 趙永椿;紀禺山;張軍營 | 申請（專利權）人： | 華中科技大學 |
| 主分類號： | G01N1/28 | 分類號： | G01N1/28;G01N21/64;F27B17/02 |
| 代理公司： | 華中科技大學專利中心 42201 | 代理人： | 孔娜;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 穩定 生氣 痕量 元素 化合物 裝置 及其 應用 | ||
【權利要求書】：
1.一種穩定產生氣相痕量元素或其化合物的裝置，其特征在于，所述裝置包括：
注射器(100)，用于輸出痕量元素或其化合物的溶液；
微型雙流霧化噴嘴(200)，包括進液口(210)、進氣口(220)以及出口(230)，所述注射器(100)出口與所述進液口(210)連接，所述進氣口(220)與載氣瓶(300)的出口連接；
加熱爐(400)以及設于所述加熱爐(400)內的加熱管(500)，所述加熱管(500)的進口與所述出口(230)連接。
2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括緩沖室(600)和沖擊瓶(700)，所述沖擊瓶(700)內設有吸收溶液，用于吸收痕量元素或其化合物以便對其濃度進行檢測。
3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述加熱爐(400)還包括控制裝置(410)，用于控制所述加熱爐(400)的溫度。
4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括微型注射泵(800)，所述微型注射泵(800)用于控制所述注射器(100)的輸出流速。
5.一種權利要求1～4任意一項所述裝置的應用，其特征在于，所述痕量元素或其化合物為SeO2。
6.根據權利要求5所述的應用，其特征在于，所述吸收溶液為HNO3和H2O2的混合溶液。
7.根據權利要求6所述的應用，其特征在于，所述吸收溶液中HNO3和H2O2的質量濃度分別為5％和10％。
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