[發(fā)明專利]一種光學顯像膜及其制備工藝

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• 申請日: 2021-02-25
• 公開（公告）號: CN112631063A
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發(fā)明（設計）人: 肖曉宇;黃奇
• 申請（專利權）人: 深圳市光科數字科技有限公司
• 主分類號: G03B21/60
• 分類號: G03B21/60
• 代理公司: 無錫風創(chuàng)知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32461
• 代理人: 賈傳美

1.一種光學顯像膜，其特征在于：所述光學顯像膜包括基膜和位于基膜上的凸起部，所述凸起部大體上呈現(xiàn)直角梯形結構，所述直角梯形結構的傾斜面上設置有臺階結構，所述臺階結構包括平行于基膜的第一面以及與基膜呈現(xiàn)一定角度的第二面，在所述臺階結構上還設置有顯像膜層，所述顯像膜層包括漫反射層和位于所述漫反射層上的環(huán)境光吸收層。

2.根據權利要求1所述的光學顯像膜，所述基膜和位于基膜上的凸起部采用PC樹脂、PMMA樹脂或ABS樹脂中的任一透明樹脂制備而成。

3.根據權利要求1所述的光學顯像膜，所述臺階結構的第一面和第二面的數量可以為多個并且多個第二面之間彼此互相平行。

4.根據權利要求1所述的光學顯像膜，所述漫反射層采用Ag、Al、Cr中任一種高反射率的材料沉積得到，所述環(huán)境光吸收層為樹脂與黑色添加物混合物涂覆得到。

5.根據權利要求1所述的光學顯像膜，所述漫反射層通過調控沉積涂層的參數、沉積前處理或者沉積后處理等方式來獲得特定的漫反射率。

6.根據權利要求1所述的光學顯像膜，所述臺階結構的多個第二面與基膜的角度呈現(xiàn)變化的趨勢。

7.根據權利要求1所述的光學顯像膜，所述臺階結構的多個第二面與基膜的角度從上到下表現(xiàn)為依次遞減或者遞增的趨勢。

8.根據權利要求1所述的光學顯像膜，所述臺階部和顯像膜層之間還包括漫反射結構層，所述漫反射結構層構造為通過在凸起部上加工出的微細粗糙結構層。

9.一種如權利要求1-8任一所述的光學顯像膜的制備方法，所述工藝包括：制備基膜以及位于基膜上的凸起部，接著在基膜的凸起部上沉積漫反射層和環(huán)境光吸收層從而獲得所述的光學顯像膜。

10.根據權利要求8所述的制備方法，所述臺階部和顯像膜層之間還包括漫反射結構層，所述漫反射結構層構造為通過在凸起部上加工出的微細粗糙結構層。