[發明專利]基座及清潔設備

有效

• 申請號: 202011484049.0
• 申請日: 2020-12-16
• 公開（公告）號: CN112617684B
• 公開（公告）日: 2022-11-11
• 發明（設計）人: 張勇勝;程義付
• 申請（專利權）人: 江蘇美的清潔電器股份有限公司;美的集團股份有限公司
• 主分類號: A47L11/282
• 分類號: A47L11/282;A47L11/40
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務所 11313
• 代理人: 王一;包莉莉

1.一種基座，其特征在于，所述基座設有滾刷支撐區域，用于支撐清潔裝置的滾刷，所述滾刷支撐區域設有相互間隔的多個清潔凸起，所述清潔凸起的端部適于與所述滾刷的外周面相互干涉；

其中，多個所述清潔凸起在所述滾刷的周向上間隔布置，每個所述清潔凸起在與所述滾刷相平行的方向上的長度不小于所述滾刷的軸向長度，且每個所述清潔凸起的端部與所述滾刷的中心軸線之間的距離均相等，多個所述清潔凸起包括第一清潔凸起和第二清潔凸起，所述第一清潔凸起的凸起方向沿朝向所述滾刷的順時針轉動方向傾斜設置，所述第二清潔凸起的凸起方向沿朝向所述滾刷的逆時針轉動方向傾斜設置；多個所述第一清潔凸起和多個所述第二清潔凸起在所述滾刷的周向上交錯設置。

2.根據權利要求1所述的基座，其特征在于，所述清潔凸起構造為長條狀，當所述滾刷放置于所述滾刷支撐區域時，所述清潔凸起的長度方向與所述滾刷的軸向平行。

3.根據權利要求1或2任一項所述的基座，其特征在于，所述滾刷支撐區域構造為凹槽，所述清潔凸起由所述凹槽的底壁沿朝向所述滾刷的方向凸起形成。

4.根據權利要求3所述的基座，所述凹槽為弧形槽。

5.一種清潔設備，其特征在于，包括：

清潔裝置，所述清潔裝置設有滾刷；

根據權利要求1-4任一項所述的基座，所述清潔裝置適于支撐于所述基座，且所述滾刷適于支撐于所述滾刷支撐區域。

6.根據權利要求5所述的清潔設備，其特征在于，所述清潔裝置還包括：

驅動部，所述驅動部與所述滾刷驅動連接，用于驅動所述滾刷沿順時針方向或逆時針方向轉動。

7.根據權利要求5或6任一項所述的清潔設備，其特征在于，所述清潔裝置為手持清潔裝置。