[發明專利]一種氮化鋁陶瓷基板用拋光液及其制備方法和拋光方法

在審

• 申請號: 202011483351.4
• 申請日: 2020-12-16
• 公開（公告）號: CN112521866A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發明（設計）人: 苑亞斐;成淼;李雪梅
• 申請（專利權）人: 北京國瑞升科技股份有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;B24B1/00;B24B57/02
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 王煥

1.一種氮化鋁陶瓷基板用拋光液，其特征在于，主要由以下質量份數的組分組成：

氧化鋁磨料90～110份、分散劑4～12份和水850～950份；

采用pH調節劑調節所述拋光液的pH為3～5。

2.根據權利要求1所述的氮化鋁陶瓷基板用拋光液，其特征在于，主要由以下質量份數的組分組成：

氧化鋁磨料95～105份、分散劑5～10份和水870～920份；

采用pH調節劑調節所述拋光液的pH為3.5～4.5。

3.根據權利要求1所述的氮化鋁陶瓷基板用拋光液，其特征在于，所述氧化鋁磨料為片狀、塊狀和球狀中的至少一種；優選為球狀；

優選地，所述氧化鋁磨料的粒徑為100～600nm。

4.根據權利要求1所述的氮化鋁陶瓷基板用拋光液，其特征在于，所述分散劑包括DISPERBYK-191、DISPERBYK-2015、DISPERBYK-199、DISPERBYK-2081、DISPERBYK-194N、BYK-154和DISPERBYK-2061中的至少一種。

5.根據權利要求1所述的氮化鋁陶瓷基板用拋光液，其特征在于，所述pH調節劑包括無機酸和/或有機酸；

優選地，所述無機酸包括鹽酸、硝酸、硼酸、硫酸、碳酸和磷酸中的至少一種；

優選地，所述有機酸包括酒石酸、蘋果酸、草酸、水楊酸、檸檬酸、乙酸和丁二酸中的至少一種。

6.權利要求1～5中任一項所述的氮化鋁陶瓷基板用拋光液的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

調節所述氧化鋁磨料、分散劑和水的混合分散液的pH至3～5。

7.根據權利要求6所述的氮化鋁陶瓷基板用拋光液的制備方法，其特征在于，所述混合分散液的制備方法包括以下步驟：

將氧化鋁磨料和水的混合物進行超聲波處理，再加入分散劑進行超聲波處理；

優選地，于攪拌下加入pH調節劑調節所述混合分散液的pH至3～5。

8.根據權利要求7所述的氮化鋁陶瓷基板用拋光液的制備方法，其特征在于，所述將氧化鋁磨料和水的混合物進行超聲波處理的時間為8～12min。

9.根據權利要求7所述的氮化鋁陶瓷基板用拋光液的制備方法，其特征在于，所述再加入分散劑進行超聲波處理的時間為15～25min。

10.一種氮化鋁陶瓷基板的拋光方法，其特征在于，采用權利要求1～5中任一項所述的拋光液對氮化鋁陶瓷基板進行拋光；

優選地，所述拋光的速率為0.6～2.2μm/h，所述拋光的壓力為200～300g/cm²，所述拋光的轉速為55～65rpm，所述拋光的時間為50～65min。