[發明專利]溝道孔的制作方法、存儲器及其制作方法

有效

• 申請號: 202011483118.6
• 申請日: 2020-12-15
• 公開（公告）號: CN112614846B
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發明（設計）人: 柳波;楊超;吳振國;徐文超;何豐;軒攀登
• 申請（專利權）人: 長江存儲科技有限責任公司
• 主分類號: H01L27/11556
• 分類號: H01L27/11556;H01L27/11524;H01L27/11582;H01L27/1157
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 梁文惠

1.一種溝道孔的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供表面具有第一堆疊結構(10)的襯底(100)，所述第一堆疊結構(10)中形成有貫穿至所述襯底(100)的多個第一溝道通孔(210)，在各所述第一溝道通孔(210)中形成填充層(211)，所述第一堆疊結構(10)具有至少一個切割區域，所述第一溝道通孔(210)位于所述第一堆疊結構(10)中除所述切割區域之外的區域中；

在所述第一堆疊結構(10)表面覆蓋中間層(40)，在與所述切割區域對應的所述中間層(40)中形成第一對位槽(510)；

在所述中間層(40)上形成第二堆疊結構(60)，所述第二堆疊結構(60)對應于所述第一對位槽(510)的位置形成有第二對位槽(520)；

基于所述第二對位槽(520)，采用套刻工藝形成順序貫穿所述第二堆疊結構(60)和中間層(40)至所述填充層(211)的第二溝道通孔(220)，去除所述填充層(211)以使所述第二溝道通孔(220)與所述第一溝道通孔(210)連通，

所述第一堆疊結構(10)包括沿遠離所述襯底(100)的方向交替層疊的第一犧牲層(110)和第一隔離層(120)；

所述中間層(40)包括沿遠離所述襯底(100)的方向交替層疊的第二犧牲層(410)和第二隔離層(420)；

所述第二堆疊結構(60)包括沿遠離所述襯底(100)的方向交替層疊的第三犧牲層(610)和第三隔離層(620)，

所述第一對位槽(510)貫穿所述中間層(40)；

所述第一對位槽(510)貫穿至所述第一堆疊結構(10)中。

2.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述中間層(40)包括至少兩組所述第二犧牲層(410)和所述第二隔離層(420)。

3.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，采用光刻工藝在與所述切割區域對應的所述中間層(40)中形成所述第一對位槽(510)。

4.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，形成所述第二溝道通孔(220)的步驟包括：

在所述第二堆疊結構(60)表面覆蓋硬掩膜(70)，所述硬掩膜(70)對應于所述第二對位槽(520)的位置形成第三對位槽；

采用光刻工藝在所述硬掩膜(70)上除所述第三對位槽之外的位置形成開口，通過所述開口對所述第二堆疊結構(60)進行刻蝕，以形成所述第二溝道通孔(220)，所述開口與所述第一溝道通孔(210)一一對應。

5.一種存儲器的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

采用權利要求1至4中任一項所述的制作方法在襯底(100)上形成具有堆疊結構，所述堆疊結構中具有貫穿至所述襯底(100)的溝道孔(20)，所述堆疊結構包括沿遠離所述襯底(100)的方向交替層疊的犧牲層和隔離層；

在所述溝道孔(20)中形成存儲結構；

在所述堆疊結構中形成貫穿至所述襯底(100)的柵極隔槽，所述柵極隔槽位于相鄰所述溝道孔(20)之間；

去除所述犧牲層，并在對應所述犧牲層的位置形成柵極層。

6.根據權利要求5所述的制作方法，其特征在于，形成所述存儲結構的步驟包括：

在所述溝道孔(20)的側壁上順序形成層疊的電荷阻擋層、電子捕獲層、隧穿層和溝道層。

7.根據權利要求5所述的制作方法，其特征在于，在所述堆疊結構的形成有第二對位槽(520)的切割區域形成貫穿至所述襯底(100)的所述柵極隔槽。

8.一種存儲器，其特征在于，包括具有雙柵極堆疊結構的襯底(100)和存儲結構(500)，所述雙柵極堆疊結構包括沿遠離所述襯底(100)方向順序層疊的第一柵極堆疊結構(200)、中間柵極堆疊結構(300)和第二柵極堆疊結構(400)，所述第一柵極堆疊結構(200)中具有貫穿至所述襯底(100)的第一溝道通孔(210)，所述中間柵極堆疊結構(300)和所述第二柵極堆疊結構(400)中具有與所述第一溝道通孔(210)連通的第二溝道通孔(220)，所述存儲結構位于連通的所述第一溝道通孔(210)與所述第二溝道通孔(220)中，所述中間柵極堆疊結構(300)遠離所述襯底(100)的一側具有第一對位槽(510)，所述第二柵極堆疊結構(400)中的部分填充于所述第一對位槽(510)中，所述第二柵極堆疊結構遠離所述襯底(100)的一側表面具有與所述第一對位槽(510)對應的第二對位槽(520)，

所述第一柵極堆疊結構(200)包括交替層疊的第一隔離層(120)和第一柵極結構(130)，

所述中間柵極堆疊結構(300)包括交替層疊的第二隔離層(420)和第二柵極結構(430)，

所述第二柵極堆疊結構(400)包括交替層疊的第三隔離層(620)和第三柵極結構(630)，

所述第一對位槽(510)貫穿所述中間柵極堆疊結構(300)；

所述第一對位槽(510)貫穿至所述第一柵極堆疊結構(200)。