[發(fā)明專利]實驗室專用廢液處理系統(tǒng)

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• 申請日: 2020-12-16
• 公開（公告）號: CN112679017A
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 林青龍
• 申請（專利權(quán)）人: 南京標(biāo)異智能科技有限公司
• 主分類號: C02F9/10
• 分類號: C02F9/10;B01D53/04;B01D53/78;B01D53/38
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• 代理人: 暫無信息

1.一種實驗室專用廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，包括中和室、廢氣處理模塊、廢液自凈離析模塊和三級過濾模塊；

所述中和室的頂部一側(cè)連接管路，作為廢液入口，頂部另一層連接排風(fēng)機；所述排風(fēng)機的另一側(cè)連接廢氣處理模塊；所述排風(fēng)機用于將廢氣排入至廢氣處理模塊；

所述中和室的側(cè)壁底部連接管路，作為中和室內(nèi)液體的流出口，流入至廢液自凈離析模塊；

所述廢液自凈離析模塊內(nèi)頂部設(shè)置有蒸餾出口，并以管道形式連接中和室的側(cè)壁頂部；

所述廢液自凈離析模塊的正下方設(shè)置有所述三級過濾模塊，用于進行廢液過濾；所述三級過濾模塊的底部通過排水泵將過濾后的液體抽至中和室中。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實驗室專用廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，所述廢氣處理模塊包括吸附腔室、中和腔室和風(fēng)機；

所述吸附腔室的側(cè)壁底部設(shè)置有進氣口，側(cè)壁頂部設(shè)置有出氣口；所述進氣口連接排風(fēng)機；在所述進氣口所在高度和出氣口所在高度之間設(shè)置有多道干式吸附顆粒吸附層；所述吸附層內(nèi)放置有吸附劑顆粒；每個所述吸附層的頂部和底部隔層板上均設(shè)置有透氣孔，用于廢氣的流進流出；

所述中和腔室內(nèi)設(shè)置有酸堿中和液，用于中和廢氣；所述吸附腔室的出氣口連接有導(dǎo)管；所述導(dǎo)管的底部插入接近至中和腔室的底部；所述中和腔室的頂部邊緣處設(shè)置有風(fēng)機氣道；所述風(fēng)機置于風(fēng)機氣道中，且風(fēng)機用于從中和腔室內(nèi)吸氣；所述風(fēng)機的吸氣速率大于中和腔室內(nèi)導(dǎo)管的進氣速率，以使得中和腔室內(nèi)處于真空狀態(tài)；

所述吸附腔室的進氣口和出氣口、風(fēng)機的進氣口和出氣口均設(shè)置有風(fēng)壓傳感器。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的實驗室專用廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，所述中和腔室的側(cè)壁在低位設(shè)置有液位計報警器。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的實驗室專用廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，所述吸附層設(shè)置有四個；每個所述吸附層在吸附腔室內(nèi)采用抽屜式抽拉更換。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實驗室專用廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，所述廢液自凈離析模塊包括離析器本體以及廢液處理多層腔室；所述廢液處理多層腔室內(nèi)置于離析器本體內(nèi)；

所述離析器本體的側(cè)壁上方設(shè)置有廢液入口，頂部上方背離廢液入口的區(qū)域設(shè)置有氣體出口；

所述廢液處理多層腔室從上至下依次包括加熱層、液體均流層、竹炭吸附層、自回路均流層、吸附結(jié)晶層和過濾層；

所述加熱層采用電鍍加熱蒸餾片，用于對廢液進行初步加熱，使得部分液體蒸發(fā)，從氣體出口散出；

所述液體均流層采用水平放置的托盤，且托盤兩側(cè)固定在離析器本體側(cè)壁上；所述托盤內(nèi)均勻分布有溢流孔，用于液體流入至竹炭吸附層；

所述竹炭吸附層內(nèi)置竹炭吸附材料，用于過濾廢液中的顆粒物；

所述自回路均流層內(nèi)設(shè)置有多個上下排布的水平放置的托盤；

所述吸附結(jié)晶層的頂部和底部均設(shè)置有溢流孔，內(nèi)部用于將酸液吸附形成結(jié)晶；

所述過濾層包括上下分布的無紡棉過濾層和高密無紡布過濾層；

所述無紡棉過濾層和高密無紡布過濾層的底部托盤上均采用密封性托盤并在靠近離析器本體側(cè)壁的一端設(shè)置有液流口；

所述高密無紡布過濾層的底部與離析器本體側(cè)壁的底部出口連通。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的實驗室專用廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，所述加熱層內(nèi)設(shè)置有多片電鍍加熱蒸餾片，分別從上到下斜向分布。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的實驗室專用廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，所述電鍍加熱蒸餾片的高端固定在離析器本體的側(cè)壁上，低端朝向下一個電鍍加熱蒸餾片上；上下相鄰的所述電鍍加熱蒸餾片的高端分別在離析器本體的側(cè)壁兩側(cè)，以增加廢液流經(jīng)電鍍加熱蒸餾片的時長。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的實驗室專用廢液處理系統(tǒng)，其特征在于，所述自回路均流層內(nèi)的托盤之間形成S型回路。