[發明專利]一種制備ITO粉末的工藝在審
| 申請號: | 202011482735.4 | 申請日: | 2020-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN112521164A | 公開(公告)日: | 2021-03-19 |
| 發明(設計)人: | 唐安泰 | 申請(專利權)人: | 株洲火炬安泰新材料有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/626 | 分類號: | C04B35/626;C04B35/01;C04B35/457 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 楊千尋;杜梅花 |
| 地址: | 412000 *** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 ito 粉末 工藝 | ||
本發明公開了一種制備ITO粉末的工藝,所述ITO粉末原料為金屬銦,金屬銦與硝酸混合配制成硝酸銦,并與四氯化錫進行混合,隨后進行沉淀制備工藝;所述制備工藝分為:添加沉淀劑和添加劑階段、加熱攪拌階段、洗凈過濾階段、烘干研磨階段和煅燒階段,沖洗罐中通入去離子水,去離子水對氫氧化銦和氫氧化錫沉淀物進行沖洗,并且沖洗水通過循環管再次通入沖洗罐中,所述循環管中部加設過濾器,所述過濾器中配備有可拆卸式濾網,便于進行更換,所述煅燒操作采用分級煅燒,煅燒爐中采用分段式隔板,提高混合粉末的離散程度,加快混合粉末的煅燒速度。本發明可對沖洗水進行循環使用,降低水資源的浪費,并且采取震蕩式煅燒,加快煅燒的速度。
技術領域
本發明涉及ITO靶材制備技術領域,具體為一種制備ITO粉末的工藝。
背景技術
ITO靶材時三氧化二銦和二氧化錫的混合物,是ITO薄膜制備的重要原料,ITO靶主要用于ITO膜透明導電玻璃的制作,而ITO膜透明導電玻璃是制造平面液晶顯示的主要材料在電子工業、信息產業方面具備廣闊的應用。而ITO靶材是通過ITO粉末煅燒制成,因此ITO粉末的質量決定著ITO靶材的質量。
經過海量檢索,發現現有技術CN103771497A的中國發明專利公開了一種制備ITO粉末的工藝,其包括將銦溶解于硝酸中,再加入過量的氨水攪拌;向上述溶液中加入四氯化錫,并加熱攪拌,得到銦錫氫氧化物沉淀溶液;加熱濃縮沉淀溶液,得到銦錫氫氧化物膠狀體;研磨膠狀體;煅燒研磨后的膠狀體,得到銦錫混合物;干燥混合物,得到ITO粉末。本發明采用濃縮的新工藝制得ITO前驅體,然后結合濕法研磨的方法制備了納米級的ITO粉末,提供了一種新的制備ITO粉末的工藝,其不僅制備成本低,而且工藝簡單。
綜上所述,現有的ITO粉末在生產過程中,大多采用均相共沉淀法,而均相共沉淀法工藝中,需要進行去離子水沖洗和煅燒,所需的設備簡單是該工藝方法顯著的優點,但是在去離子水沖洗過程中,會造成大量的水資源浪費,并且煅燒的效率較低,工藝周期長,不能夠適用于規模生產。
發明內容
本發明的目的在于提供一種制備ITO粉末的工藝,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:一種制備ITO粉末的工藝,所述ITO粉末原料為金屬銦,金屬銦與硝酸混合配制成硝酸銦,并與四氯化錫進行混合,隨后進行沉淀制備工藝;
所述制備工藝分為:添加沉淀劑和添加劑階段、加熱攪拌階段、洗凈過濾階段、烘干研磨階段和煅燒階段;
所述原料配備完成后,添加沉淀劑和添加劑,所述沉淀劑為尿素,添加劑為硫酸氨;沉淀劑與添加劑添加完成后,添加去離水進行混合,制成銦錫鹽水溶液;
所述銦錫鹽水溶液添加至加熱釜中,加熱釜中設置有電動攪拌桿,所述加熱釜通電后加熱,并驅動電動攪拌桿對加熱釜內部的銦錫鹽水溶液進行加熱攪拌;
經過加熱攪拌后,尿素受熱均勻分解,產生氨水,并且氨水與銦錫鹽水溶液產生化學反應,生成氫氧化銦和氫氧化錫,氫氧化銦與氫氧化錫與水不相溶,并產生沉淀;
所述洗凈過濾階段采用去離子水進行沖洗,并進行過濾,取出氯離子和硫酸根離子等雜質,得到乳白色膠狀氫氧化銦和氫氧化錫混合體;
所述烘干研磨階段對沖洗結束的氫氧化銦和氫氧化錫進行取出,并置于烘干爐中,所述烘干爐對氫氧化銦和氫氧化錫沉淀物進行烘干;
所述煅燒階段將氫氧化銦和氫氧化錫粉末置于煅燒爐中進行煅燒,所述煅燒溫度控制在600-1000℃,其中預熱階段溫度控制在500-600℃,預熱1h,然后進行高溫加熱階段,溫度提升至800-1000℃。
優選的,所述加熱釜對銦錫鹽水溶液加熱的溫度控制在70-100℃之間,并且電動攪拌桿轉速為1000r/min,所述加熱釜與電動攪拌桿均通過獨立的控制器進行控制。
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