[發明專利]一種校準眩光測量裝置的標準眩光場及校準方法在審
| 申請號： | 202011480821.1 | 申請日： | 2020-12-15 |
| 公開（公告）號： | CN112762862A | 公開（公告）日： | 2021-05-07 |
| 發明（設計）人： | 李奕;張曉穎;吳永順 | 申請（專利權）人： | 陜西省計量科學研究院 |
| 主分類號： | G01B11/26 | 分類號： | G01B11/26 |
| 代理公司： | 中國商標專利事務所有限公司 11234 | 代理人： | 郝震 |
| 地址： | 710065 *** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 校準 眩光 測量 裝置 標準 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種校準眩光測量裝置的標準眩光場，其特征在于：包括標準眩光板及補光裝置；所述標準眩光板上涂覆有漫反射材料，所述標準眩光板上設置有眩光光源，所述眩光光源亮度、色度可調，所述補光裝置位于所述標準眩光板發光面之前，用以給標準眩光板均勻補光。
2.根據權利要求1所述的一種校準眩光測量裝置的標準眩光場，其特征在于：所述補光裝置照度、色溫可調。
3.根據權利要求1所述的一種校準眩光測量裝置的標準眩光場，其特征在于：所述眩光測量裝置為眩光測量儀或成像亮度計。
4.根據權利要求1所述的一種校準眩光測量裝置的標準眩光場，其特征在于：所述漫反射材料為硫酸鋇涂層、聚四氟乙烯涂層或氧化鎂涂層中的一種。
5.一種校準眩光測量裝置的校準方法，其利用權利要求1所述的一種用于校準眩光測量裝置的標準眩光場，其特征在于：包括以下步驟：
步驟1：打開標準眩光板上眩光光源；調整補光裝置的位置，打開補光裝置，給標準眩光板上涂覆的漫反射材料均勻補光；
步驟2：確定一測量點，通過測量眩光光源亮度、背景亮度、背景相對空間角度和空間位置，計算在該測量點的標準眩光值；
步驟4：在該測量點，使用眩光測量裝置測量標準眩光場的眩光值；
步驟5：改變亮度、色度、或者測量位置重復測量。
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