[發(fā)明專利]一種陣列式指示光柵結構及其生產(chǎn)工藝

在審

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• 申請日: 2020-12-15
• 公開（公告）號: CN112630877A
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發(fā)明（設計）人: 程亞洲
• 申請（專利權）人: 山東大學
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G02B27/60
• 代理公司: 北京方圓嘉禾知識產(chǎn)權代理有限公司 11385
• 代理人: 呂永齊

本發(fā)明公開了一種陣列式指示光柵結構及其生產(chǎn)工藝，包括第一外殼，所述第一外殼的內(nèi)部固定連接有第二光柵板，所述第二光柵板的前表面開設有第二光柵刻線，所述第二光柵板的前表面對稱固定連接有兩個滑軌；本發(fā)明通過光柵刻板選材、光刻顯影、光柵板刻線和光柵成品結構安裝四道生產(chǎn)工藝生產(chǎn)制造陣列式指示光柵結構，生產(chǎn)時選擇聚苯乙烯為光柵板原料，其原料透明度高，折射率和拉伸強度合理，光刻圖形顯影后可在光柵板上進行陣列式刻線，生產(chǎn)后的第二光柵板上方固定設置兩個滑軌，并將第一光柵板的上表面和下表面通過安裝滑塊并將滑塊在滑軌中滑動，使得第一光柵板在第二光柵板上滑動，便于調(diào)整調(diào)節(jié)指示光柵的位置，從而在有光源的照射下產(chǎn)生莫爾條紋。

技術領域

本發(fā)明涉及光柵設備技術領域，具體為一種陣列式指示光柵結構及其生產(chǎn)工藝及其生產(chǎn)工藝。

背景技術

眾所周知，光柵是由大量等寬等間距的平行狹縫構成的光學器件稱為光柵；一般常用的光柵是在玻璃片上刻出大量平行刻痕制成，刻痕為不透光部分，兩刻痕之間的光滑部分可以透光，相當于一狹縫；精制的光柵，在1cm寬度內(nèi)刻有幾千條乃至上萬條刻痕；這種利用透射光衍射的光柵稱為透射光柵，還有利用兩刻痕間的反射光衍射的光柵，如在鍍有金屬層的表面上刻出許多平行刻痕，兩刻痕間的光滑金屬面可以反射光，這種光柵稱為反射光柵，一般常用的光柵是在玻璃片上刻出大量平行刻痕制成，刻痕為不透光部分，兩刻痕之間的光滑部分可以透光，相當于一狹縫；精制的光柵，在1cm寬度內(nèi)刻有幾千條乃至上萬條刻痕；然而現(xiàn)有的陣列式指示光柵結構在結構上較為單一，無法合理的對指示光柵進行移動調(diào)節(jié)，當主光柵中某一區(qū)塊發(fā)生損壞，則無法調(diào)節(jié)指示光柵至主光柵未損壞區(qū)域，為此，提出一種陣列式指示光柵結構及其生產(chǎn)工藝及其生產(chǎn)工藝。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種陣列式指示光柵結構及其生產(chǎn)工藝及其生產(chǎn)工藝，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術方案：一種陣列式指示光柵結構及其生產(chǎn)工藝，包括第一外殼，所述第一外殼的內(nèi)部固定連接有第二光柵板，所述第二光柵板的前表面開設有第二光柵刻線，所述第二光柵板的前表面對稱固定連接有兩個滑軌，兩個所述滑軌的內(nèi)側(cè)壁均對稱滑動連接有兩個滑塊，四個所述滑塊的相斥一側(cè)均螺紋連接有第一螺栓，四個所述第一螺栓的一端均貼合于兩個所述滑軌的內(nèi)側(cè)壁，四個所述滑塊的相鄰一側(cè)固定連接有第一光柵板，所述第一光柵板的前表面開設有第一光柵刻線，所述第一外殼的兩側(cè)均固定連接有連接板，兩個所述連接板的前表面均對稱螺紋連接有兩個第二螺栓。

作為本技術方案的進一步優(yōu)選的：所述第一外殼的外側(cè)壁設有第二外殼，所述第一外殼位于所述第二外殼的內(nèi)部，四個所述第二螺栓的一端均螺紋連接于所述第二外殼的內(nèi)側(cè)壁。

作為本技術方案的進一步優(yōu)選的：所述第二外殼的前表面固定連接有第一殼體，所述第二外殼的后表面固定連接有第二殼體。

作為本技術方案的進一步優(yōu)選的：所述第一殼體的上表面固定連接有固定板，所述固定板的內(nèi)側(cè)壁鉸接有第二板體，所述第二板體的上表面螺紋連接有第三螺栓，所述第三螺栓的一端螺紋連接于所述第一殼體的上表面，所述第一殼體的內(nèi)側(cè)壁對稱固定連接有兩個固定塊。

作為本技術方案的進一步優(yōu)選的：所述第二殼體的外側(cè)壁連通有管體。

本發(fā)明還提供了一種陣列式指示光柵結構及其生產(chǎn)工藝生產(chǎn)工藝，包括以下步驟：

S1、光柵刻板選材，第一光柵板和第二光柵板的使用材料為聚苯乙烯，聚苯乙烯原料經(jīng)過注塑加工成為凹凸柱鏡狀光柵片；聚苯乙烯為無色透明材質(zhì)，折射率為1.59-1.6，拉伸強度為3.52-6.33MPa，彎曲強度為6.12-9.84MPa，其中第一光柵板為主光柵，第二光柵板為指示光柵；

S2、光刻顯影，在光刻膠曝光區(qū)和負性光刻膠的非曝光區(qū)的光刻膠在顯影液中溶解，在光刻膠上形成三維圖形，光刻膠層上加具有光柵圖形的掩模，光照后將光柵圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上，將光刻圖形進行顯影；