[發(fā)明專利]清潔設(shè)備的控制方法、清潔設(shè)備以及存儲(chǔ)介質(zhì)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011476779.6
• 申請(qǐng)日: 2020-12-15
• 公開（公告）號(hào): CN113729577A
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 倪祖根
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 萊克電氣股份有限公司
• 主分類號(hào): A47L11/40
• 分類號(hào): A47L11/40;A47L11/24;A47L9/28;A47L9/00
• 代理公司: 北京國(guó)昊天誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11315
• 代理人: 李秋華;王思超

1.一種清潔設(shè)備的控制方法，其特征在于，所述控制方法包括：

獲取所述清潔設(shè)備的行進(jìn)阻力值；

在所述行進(jìn)阻力值大于第一閾值時(shí)，根據(jù)所述行進(jìn)阻力值，調(diào)整目標(biāo)參數(shù)至目標(biāo)值，使得所述行進(jìn)阻力值位于舒適行進(jìn)阻力值范圍內(nèi)；

其中，所述第一閾值是所述舒適行進(jìn)阻力值范圍中的最大值，所述目標(biāo)參數(shù)是影響地刷口真空度的參數(shù)中的至少一種，所述目標(biāo)值對(duì)應(yīng)的地刷口真空度與所述行進(jìn)阻力值負(fù)相關(guān)；

還包括：

在所述行進(jìn)阻力值小于第二閾值時(shí)，根據(jù)所述行進(jìn)阻力值，調(diào)整所述目標(biāo)參數(shù)至所述目標(biāo)值，使得所述行進(jìn)阻力值位于所述舒適行進(jìn)阻力值范圍內(nèi)；

其中，所述第二閾值是所述舒適行進(jìn)阻力值范圍中的最小值；

在所述行進(jìn)阻力值大于等于所述第二閾值且小于等于所述第一閾值時(shí)，以目標(biāo)參數(shù)的當(dāng)前值運(yùn)行；

所述舒適行進(jìn)阻力值范圍由所述清潔設(shè)備在過(guò)去使用時(shí)的行進(jìn)阻力值確定得到；

所述根據(jù)所述行進(jìn)阻力值，調(diào)整目標(biāo)參數(shù)至目標(biāo)值，包括：

根據(jù)預(yù)設(shè)規(guī)則，確定所述目標(biāo)參數(shù)；

根據(jù)所述行進(jìn)阻力值，調(diào)整所述目標(biāo)參數(shù)至所述目標(biāo)值；

所述根據(jù)預(yù)設(shè)規(guī)則，確定所述目標(biāo)參數(shù)，包括以下至少一種：

根據(jù)預(yù)先設(shè)置的參數(shù)優(yōu)先級(jí)和優(yōu)先級(jí)規(guī)則，確定所述目標(biāo)參數(shù)；

根據(jù)各參數(shù)對(duì)所述地刷口真空度的影響程度，確定所述目標(biāo)參數(shù)；

根據(jù)當(dāng)前周期的行進(jìn)阻力值相對(duì)之前至少一個(gè)周期的行進(jìn)阻力值的變化量，確定所述目標(biāo)參數(shù)；

根據(jù)清潔對(duì)象的類別，確定所述目標(biāo)參數(shù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備的控制方法，其特征在于，所述影響地刷口真空度的參數(shù)至少包括以下一種：吸入電機(jī)的轉(zhuǎn)速，吸入口的尺寸，刷毛與清潔對(duì)象的接觸深度，地刷電機(jī)的轉(zhuǎn)速。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備的控制方法，其特征在于，

當(dāng)所述目標(biāo)參數(shù)包括至少兩種時(shí)，各參數(shù)對(duì)所述地刷口真空度的影響程度完全相同、完全不同或部分相同。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備的控制方法，其特征在于，所述獲取清潔設(shè)備的行進(jìn)阻力值，包括以下至少一種：

獲取清潔設(shè)備中接觸件的電信號(hào)，所述接觸件用于接觸清潔對(duì)象，根據(jù)所述電信號(hào)確定所述清潔設(shè)備的所述行進(jìn)阻力值；

利用圖像獲取裝置對(duì)清潔對(duì)象進(jìn)行拍攝，基于拍攝得到的圖像確認(rèn)該清潔設(shè)備的行進(jìn)阻力值；

基于在吸入管道內(nèi)設(shè)置檢測(cè)粉塵或異物密度的傳感器來(lái)檢測(cè)當(dāng)前清潔對(duì)象表面的異物密集度，確定清潔設(shè)備的行進(jìn)阻力值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備的控制方法，其特征在于，所述目標(biāo)參數(shù)是吸入電機(jī)的轉(zhuǎn)速和地刷電機(jī)的轉(zhuǎn)速，或者，所述目標(biāo)參數(shù)是吸入電機(jī)的轉(zhuǎn)速；

在所述行進(jìn)阻力值大于第一閾值時(shí)，根據(jù)所述行進(jìn)阻力值，調(diào)整目標(biāo)參數(shù)至目標(biāo)值，包括：

在所述行進(jìn)阻力值大于所述第一閾值時(shí)，根據(jù)所述行進(jìn)阻力值，降低所述目標(biāo)參數(shù)至所述目標(biāo)值。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清潔設(shè)備的控制方法，其特征在于，所述降低所述目標(biāo)參數(shù)至所述目標(biāo)值，包括：

根據(jù)預(yù)設(shè)的行進(jìn)阻力值與目標(biāo)值的對(duì)應(yīng)關(guān)系，降低目標(biāo)參數(shù)至目標(biāo)值；或者，

在存在降低當(dāng)前地刷口真空度的目標(biāo)檔位時(shí)，降低所述目標(biāo)參數(shù)至所述目標(biāo)檔位對(duì)應(yīng)的數(shù)值；在不存在降低當(dāng)前地刷口真空度的目標(biāo)檔位時(shí)，按預(yù)設(shè)比例降低所述目標(biāo)參數(shù)的當(dāng)前數(shù)值。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清潔設(shè)備的控制方法，其特征在于，所述目標(biāo)參數(shù)是吸入電機(jī)的轉(zhuǎn)速和地刷電機(jī)的轉(zhuǎn)速，或者，所述目標(biāo)參數(shù)是吸入電機(jī)的轉(zhuǎn)速；

在所述行進(jìn)阻力值小于第二閾值時(shí)，根據(jù)所述行進(jìn)阻力值，調(diào)整所述目標(biāo)參數(shù)至所述目標(biāo)值，包括：

在所述行進(jìn)阻力值小于所述第二閾值時(shí)，根據(jù)所述行進(jìn)阻力值，增大所述目標(biāo)參數(shù)至所述目標(biāo)值。