[發(fā)明專利]一種具有防霧性能的新型光學(xué)鍍膜材料及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011475245.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112592165A | 公開(公告)日: | 2021-04-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳憲君;吳沐卉;陳燈華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇州晶生新材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | C04B35/14 | 分類號(hào): | C04B35/14;C04B35/495;C04B35/622;G02B1/18;G02B1/14 |
| 代理公司: | 深圳至誠(chéng)化育知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44728 | 代理人: | 劉英 |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 性能 新型 光學(xué) 鍍膜 材料 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種具有防霧性能的新型光學(xué)鍍膜材料及其制備方法,該新型光學(xué)鍍膜材料的重量成分組成包括:納米二氧化硅0?50%,二氧化鋯0?10%,硫化鋅0?5%,五氧化二鈮0?40%,氧化釔0?20%。本發(fā)明的鍍膜材料中納米二氧化硅含量分別為:30%、35%、40%、50%時(shí),制成薄膜后的水接觸角測(cè)量值為:15°、13°、9°、3°。上述薄膜均具有一定的防霧性能,水接觸角越小則防霧性能越好。當(dāng)鍍膜材料中不含納米二氧化硅組分時(shí),薄膜的水接觸角為33°,此時(shí),鍍膜材料不具備防霧性能。上述結(jié)果表明,鍍膜材料的防霧性能與納米二氧化硅的含量呈正相關(guān),在納米二氧化硅含量達(dá)50%時(shí)防霧性能最佳。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光學(xué)鍍膜材料生產(chǎn)領(lǐng)域,尤其涉及一種具有防霧性能的新型光學(xué)鍍膜材料及其制備方法。
背景技術(shù)
鍍膜材料一般是加熱蒸發(fā)材料使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái),并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。
專利號(hào)為:CN106019428B的發(fā)明專利公開了一種低折射率光學(xué)鍍膜材料,具體為:一種低折射率光學(xué)鍍膜材料,所述光學(xué)鍍膜材料由二氧化硅和其它添加物二氧化鋯組成,其中,二氧化硅50-99.5wt%,二氧化鋯:0.5-50wt%。
基材表面起霧的原因:霧由無(wú)數(shù)小水珠組成,熱的空氣碰到冷的物體并在其表面冷凝成小水珠,光線打到微小水珠表面發(fā)生漫反射,從而降低了材料的透光率,給人的感覺就是起霧。在基材表面涂覆具備超親水特性的薄膜,可以增大水的表面張力,導(dǎo)致水在基材表面無(wú)法形成水珠,而是攤平呈水膜狀,保證光線正常穿過(guò),不影響視線,這樣基材就有了防霧效果。
現(xiàn)有的光學(xué)鍍膜材料制備的薄膜均不具有防霧功能,且在滿足薄膜硬度的同時(shí)不能使其仍具有高的透過(guò)率,不適宜用在光學(xué)器件上,為此,我們提出了一種具有防霧性能的新型光學(xué)鍍膜材料及其制備方法,以滿足鏡片等光學(xué)器件的需求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種具有防霧性能的新型光學(xué)鍍膜材料及其制備方法,解決光學(xué)器件起霧,從而影響光學(xué)性能的問(wèn)題。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
本發(fā)明提供一種具有防霧性能的新型光學(xué)鍍膜材料,該新型光學(xué)鍍膜材料的重量成分組成包括:納米二氧化硅0-50%,二氧化鋯0-10%,硫化鋅0-5%,五氧化二鈮0-40%,氧化釔0-20%。
優(yōu)選的,該新型光學(xué)鍍膜材料的重量成分組成包括:納米二氧化硅30%,二氧化鋯10%,硫化鋅5%,五氧化二鈮38%,氧化釔17%。
優(yōu)選的,該新型光學(xué)鍍膜材料的重量成分組成包括:納米二氧化硅35%,二氧化鋯10%,硫化鋅3%,五氧化二鈮37%,氧化釔15%。
優(yōu)選的,該新型光學(xué)鍍膜材料的重量成分組成包括:納米二氧化硅40%,二氧化鋯10%,硫化鋅3%,五氧化二鈮35%,氧化釔12%。
優(yōu)選的,該新型光學(xué)鍍膜材料的重量成分組成包括:納米二氧化硅50%,二氧化鋯10%,硫化鋅3%,五氧化二鈮27%,氧化釔10%。
優(yōu)選的,所述納米二氧化硅通過(guò)將硅酸酯與無(wú)水乙醇按一定的摩爾比混合,攪拌成均勻的混合溶液,在攪拌狀態(tài)下緩慢加入適量去離子水,調(diào)節(jié)溶液的pH值,再加入合適的表面活性劑,將所得溶液攪拌后在室溫下陳化制得凝膠,凝膠在馬弗爐中干燥制得。
優(yōu)選的,所述二氧化鋯具有高熔點(diǎn)、高電阻率、高折射率和低熱膨脹系數(shù)的性質(zhì),使它成為重要的耐高溫材料。
優(yōu)選的,所述硫化鋅具有良好的應(yīng)力和良好的環(huán)境耐久性,所述硫化鋅通過(guò)在硫酸鋅溶液中加入乙酸銨,在pH=2~3時(shí)通入硫化氫,產(chǎn)生沉淀,將沉淀在隔絕空氣下過(guò)濾及干燥制備。
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