[發明專利]旋轉裝置在審
| 申請號: | 202011475173.0 | 申請日: | 2020-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN113088934A | 公開(公告)日: | 2021-07-09 |
| 發明(設計)人: | 施建新;蒲勇 | 申請(專利權)人: | 芯三代半導體科技(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市中國(江蘇)*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 旋轉 裝置 | ||
1.一種旋轉裝置,其特征在于,包括:
具有反應腔的反應器;
套筒,設置在所述反應器的底部,所述套筒包括容納腔及連通所述容納腔的進氣口,所述容納腔和所述反應腔相連通;
旋轉軸,繞自身軸線可轉動地設置在所述套筒的所述容納腔內且與所述套筒之間存在間隙,所述旋轉軸的一端伸至所述反應腔內;
支撐臺,設置在所述套筒的上端,用于限制所述旋轉軸的軸向移動;
旋轉盤,和所述旋轉軸伸至所述反應腔的一端連接;
石墨托盤,支撐在所述旋轉盤上;
加熱組件,設置在所述反應腔內,用于對所述石墨托盤加熱;
驅動組件,和所述旋轉軸遠離所述旋轉盤的一端連接,用于驅動所述旋轉軸轉動。
2.根據權利要求1所述的旋轉裝置,其特征在于,所述旋轉軸的上端設置有臺階槽,所述支撐臺垂直設置在所述套筒的上端,且所述支撐臺伸至所述旋轉軸的所述臺階槽。
3.根據權利要求1所述的旋轉裝置,其特征在于,所述套筒和所述旋轉軸之間的間隙為5-20微米。
4.根據權利要求1所述的旋轉裝置,其特征在于,所述旋轉裝置還包括密封套和底板,所述密封套的上端和所述套筒的下端連接,所述底板和所述密封套的下端連接。
5.根據權利要求4所述的旋轉裝置,其特征在于,所述驅動組件包括無框電機,所述無框電機包括轉子和定子,所述轉子套設在所述旋轉軸的外側壁上,所述定子設置在所述密封套的內側壁上,所述轉子對應設置在所述定子內。
6.根據權利要求4所述的旋轉裝置,其特征在于,所述驅動組件包括磁耦合驅動部件和電機,所述磁耦合驅動部件包括外磁體和內磁體,所述內磁體套設在所述旋轉軸的外側壁上,所述外磁體套設在所述密封套的外側壁上,所述外磁體和所述內磁體對應設置,所述電機和所述外磁體連接。
7.根據權利要求1所述的旋轉裝置,其特征在于,所述旋轉裝置還包括進氣管,所述進氣管和所述進氣口連通。
8.根據權利要求1所述的旋轉裝置,其特征在于,所述旋轉裝置還包括支撐筒,所述支撐筒的一端和所述旋轉盤連接,所述支撐筒的另一端和所述石墨托盤連接。
9.根據權利要求8所述的旋轉裝置,其特征在于,所述加熱組件包括:
加熱器,設置在由所述石墨托盤、所述支撐筒和所述旋轉盤圍成的加熱腔內;
電極板,設置在所述加熱腔內且和所述加熱器連接;
電極,所述電極的一端和所述電極板連接,所述電極的另一端依次穿過所述旋轉盤的中心孔和所述旋轉軸的內孔與底板連接。
10.根據權利要求9所述的旋轉裝置,其特征在于,所述石墨托盤包括呈圓柱形的本體,所述加熱器呈圓柱形,所述本體和所述加熱器同軸且相互平行設置。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





