[發(fā)明專(zhuān)利]一種探測(cè)設(shè)備以及輻射方位測(cè)量方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011475129.X
• 申請(qǐng)日: 2020-12-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113009548A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 彭旗宇;解強(qiáng)強(qiáng);張熙;顧崢;郭騰飛;謝思維;張義彬;許劍鋒
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 深圳灣實(shí)驗(yàn)室
• 主分類(lèi)號(hào): G01T1/202
• 分類(lèi)號(hào): G01T1/202;G01T1/29
• 代理公司: 深圳中一聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44414
• 代理人: 周偉鋒

1.一種探測(cè)設(shè)備，用于對(duì)待檢測(cè)的放射源進(jìn)行檢測(cè)，其特征在于：所述探測(cè)設(shè)備包括：

閃爍晶體，所述閃爍晶體為柱狀結(jié)構(gòu)，并用于攔截所述放射源產(chǎn)生的伽馬光子并產(chǎn)生光信號(hào)；以及

光電探測(cè)器陣列，設(shè)置于所述閃爍晶體上，并用于接收光信號(hào)。

2.如權(quán)利要求1所述的探測(cè)設(shè)備，其特征在于：所述閃爍晶體沿其軸向開(kāi)設(shè)有通孔，所述閃爍晶體具有內(nèi)壁面、外壁面、第一端面以及第二端面，所述內(nèi)壁面、所述外壁面、所述第一端面和所述第二端面中的至少一個(gè)面上設(shè)置有所述光電探測(cè)器陣列。

3.如權(quán)利要求2所述的探測(cè)設(shè)備，其特征在于：所述光電探測(cè)器陣列設(shè)置于所述第一端面和所述第二端面上。

4.如權(quán)利要求3所述的探測(cè)設(shè)備，其特征在于：所述光電探測(cè)器陣列呈環(huán)狀，所述光電探測(cè)器陣列包括：

多個(gè)光電探測(cè)器單元，多個(gè)所述光電探測(cè)單元繞所述閃爍晶體的軸線沿周向均勻分布。

5.如權(quán)利要求2所述的探測(cè)設(shè)備，其特征在于：所述探測(cè)設(shè)備還包括：

屏蔽芯，設(shè)置于所述通孔內(nèi)，用于攔截所述放射源產(chǎn)生的伽馬光子。

6.如權(quán)利要求5所述的探測(cè)設(shè)備，其特征在于：所述屏蔽芯為防輻射材料件。

7.如權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的探測(cè)設(shè)備，其特征在于：所述探測(cè)設(shè)備還包括：

電路板，設(shè)于所述光電探測(cè)器陣列上，且與所述光電探測(cè)器陣列電連接。

8.如權(quán)利要求7所述的探測(cè)設(shè)備，其特征在于：所述探測(cè)設(shè)備還包括：

引出排線，與所述電路板電連接。

9.一種輻射方位測(cè)量方法，其特征在于：基于權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的探測(cè)設(shè)備進(jìn)行，當(dāng)所述閃爍晶體的兩個(gè)端面上均設(shè)有所述光電探測(cè)器陣列，且各所述光電探測(cè)器陣列包括m個(gè)光電探測(cè)器單元，m個(gè)光電探測(cè)器單元沿周向均勻分布時(shí)，所述輻射方位測(cè)量方法包括以下步驟：

S10：將m個(gè)光電探測(cè)器單元的采集時(shí)長(zhǎng)設(shè)定為n s；

S20：在所述閃爍晶體的端面的圓周方向建立坐標(biāo)系，不考慮是否為同一個(gè)事件，并得到每個(gè)光電探測(cè)器單元的采集光子能量之和E_u1，E_u2，E_u3，…，E_um以及E_d1，E_d2，E_d3，…，E_dm，繪制能量累計(jì)的分布圖，通過(guò)求取該分布直方圖的重心可獲取放射源所在的圓周方向的方位。

10.一種輻射方位測(cè)量方法，其特征在于：基于權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的探測(cè)設(shè)備進(jìn)行，當(dāng)所述閃爍晶體的兩個(gè)端面上均設(shè)有所述光電探測(cè)器陣列，且各所述光電探測(cè)器陣列包括m個(gè)光電探測(cè)器單元，m個(gè)光電探測(cè)器單元沿周向均勻分布時(shí)，所述輻射方位測(cè)量方法包括以下步驟：

S10：將m個(gè)光電探測(cè)器單元的采集時(shí)長(zhǎng)設(shè)定為n s；

S20：在所述閃爍晶體的端面的圓周方向建立坐標(biāo)系，利用正電子斷層掃描的伽馬光子定位方法，在經(jīng)過(guò)一定的能量窗、能量閾值過(guò)濾無(wú)效事件之后，對(duì)于每個(gè)單光子事件，讀取其對(duì)應(yīng)所有通道的光電探測(cè)器單元的能量值e_u1，e_u2，e_u3，…，e_um以及e_d1，e_d2，e_d3，…,e_dm，利用重心法計(jì)算單光子在圓周方向上的入射位置θ；

S30：計(jì)算所有光子事件的入射位置θ，然后通過(guò)直方圖等統(tǒng)計(jì)規(guī)律計(jì)算其入射位置的分布重心，從而得到放射源的圓周方向的入射方位。