[發明專利]一種激光刻線定位系統及方法在審
| 申請號： | 202011474616.4 | 申請日： | 2020-12-15 |
| 公開（公告）號： | CN112599638A | 公開（公告）日： | 2021-04-02 |
| 發明（設計）人： | 熊繼光;趙志國;秦校軍;肖平;趙東明;鄔俊波;董超;劉家梁;王百月;馮笑丹;梁思超;王森;張杰 | 申請（專利權）人： | 華能新能源股份有限公司;中國華能集團清潔能源技術研究院有限公司 |
| 主分類號： | H01L31/18 | 分類號： | H01L31/18;H01L31/05 |
| 代理公司： | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人： | 李鵬威 |
| 地址： | 100036 北京市海淀*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 激光 定位 系統 方法 | ||
1.一種激光刻線定位方法，其特征在于，通過光源(1)發出的光線穿過電池片(2)后進入感光識別裝置(3)中得到P1刻蝕線在感光識別裝置(3)上的位置，然后計算P1刻蝕線在感光識別裝置(3)上的位置與零點之間的相對位置關系實現對激光刻線的定位。
2.根據權利要求1所述的激光刻線定位方法，其特征在于，具體包括以下步驟，由光源(1)發出垂直平行光，垂直入射鈣鈦礦電池片(2)后，光線透過鈣鈦礦電池(2)照射入所述感光識別裝置(3)內，得到P1刻蝕線在感光識別裝置(3)上的位置；所述感光識別裝置(3)上設置有與零點有確定相對位置關系的定位點(4)，獲取P1刻蝕線在感光識別裝置(3)上的位置與定位點(4)之間的相對位置關系，計算得到P1刻蝕線在感光識別裝置(3)上的位置與零點之間的相對位置關系，實現對激光刻線的定位。
3.根據權利要求1所述的激光刻線定位方法，其特征在于，由于P1刻蝕線位置和其他位置對光源(1)發出的光的透過率不同，所述感光識別裝置(3)根據接收到的不同波段和強度光線的圖案確定P1刻蝕線在感光識別裝置(3)上的位置。
4.根據權利要求1所述的激光刻線定位方法，其特征在于，在得到P1刻蝕線在感光識別裝置(3)上的位置與零點之間的相對位置關系后，計算因電池片(2)的放置而造成的扭轉偏差，實現對激光刻線的定位。
5.一種激光刻線定位系統，其特征在于，包括設置在電池片(2)上方的光源(1)以及相對光源(1)設置在電池片(2)下方的感光識別裝置(3)，所述光源(1)發出的光線穿過電池片(2)后進入感光識別裝置(3)中，所述感光識別裝置(3)上設置有與零點有確定相對位置關系的定位點(4)。
6.根據權利要求5所述的一種激光刻線定位系統，其特征在于，所述電池片(2)為鈣鈦礦電池片。
7.根據權利要求5所述的一種激光刻線定位系統，其特征在于，所述電池片(2)固定在機臺(5)上。
8.根據權利要求5所述的一種激光刻線定位系統，其特征在于，所述光源(1)用于產生垂直平行光。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射，或微粒輻射敏感的，并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的，或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件；專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的，例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的，一個或多個電光源，如場致發光光源在結構上相連的，并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的
