[發明專利]一種用于多極式等離子發生器的絕緣結構

在審

• 申請號: 202011473611.X
• 申請日: 2020-12-15
• 公開（公告）號: CN112839422A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發明（設計）人: 李裔紅
• 申請（專利權）人: 成都金創立科技有限責任公司
• 主分類號: H05H1/34
• 分類號: H05H1/34;H05H1/28
• 代理公司: 成都睿道專利代理事務所(普通合伙) 51217
• 代理人: 賀理興

1.一種用于多極式等離子發生器的絕緣結構，其特征在于：包絕緣氣環，所述絕緣氣環設置于大陽極與小陽極之間和/或小陽極與小陽極之間；所述絕緣氣環橫截面為一環狀面，所述絕緣氣環的環狀面上設置有多個供水流和氣流分別獨立流通的通水孔和導氣通孔，所述通水孔與所述導氣通孔不連通；所述絕緣氣環的外圓周面上還開設有噴氣環槽，所述導氣通孔由所述噴氣環槽導通至所述絕緣氣環的內壁面。

2.根據權利要求1所述的用于多極式等離子發生器的絕緣結構，其特征在于，所述通水孔沿絕緣氣環的環狀面軸向分布，并由所述絕緣氣環的一端面導通至另一端面，所述導氣通孔沿絕緣氣環的環狀面切向均勻分布。

3.根據權利要求2所述的用于多極式等離子發生器的絕緣結構，其特征在于，所述通水孔和所述導氣通孔均設置有多件，多件所述通水孔沿所述絕緣氣環的圓周方向均勻分布；多件所述導氣通孔沿所述絕緣氣環的圓周方向均勻分布。

4.根據權利要求3所述的用于多極式等離子發生器的絕緣結構，其特征在于，所述通水孔與導氣通孔之間間隔分布。

5.根據權利要求2所述的用于多極式等離子發生器的絕緣結構，其特征在于，所述導氣通孔沿所述絕緣氣環環狀面切向傾斜設置。

6.根據權利要求1-5任一項所述的用于多極式等離子發生器的絕緣結構，其特征在于，所述通水孔呈腰型孔。

7.根據權利要求1所述的用于多極式等離子發生器的絕緣結構，其特征在于，所述絕緣氣環包括一體設置的第一連接段、導氣段和第二連接段，所述第一連接段套設于所述小陽極外壁面，所述第二連接段套設于所述大陽極外壁面，所述導氣段的內壁面與陽極空心管道連通；所述導氣通孔位于所述絕緣氣環內壁面的一端位于所述導氣段。

8.根據權利要求7所述的用于多極式等離子發生器的絕緣結構，其特征在于，所述第一連接段內壁面與所述小陽極外壁面之間設置有密封圈；所述第二連接段內壁面與所述大陽極外壁面之間設置有密封圈。

9.根據權利要求1所述的用于多極式等離子發生器的絕緣結構，其特征在于，所述絕緣氣環采用高分子絕緣材料制作。