[發明專利]一種切邊模具用CVD復合涂層及其制備方法在審
| 申請號: | 202011472055.4 | 申請日: | 2020-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN112647060A | 公開(公告)日: | 2021-04-13 |
| 發明(設計)人: | 朱雙林;李春敏;馬國忠;胡人文;王恩強;黃道平;沈偉 | 申請(專利權)人: | 蘇州索科特新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/34 | 分類號: | C23C16/34;C23C16/36;C23C16/40;C23C16/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 切邊 模具 cvd 復合 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.一種切邊模具用CVD復合涂層,包括基體(1),其特征在于,所述基體(1)上由里到外依次采用化學方法沉積有TiN層(2)、加固層(3)、MT-TiCxN1-x層(4)、HT-TiCN層(5)以及Al2O3層(6),所述加固層包括TiC(31)層和TiCN層(32),所述TiN層(2)與基體的的線膨脹系數接近,可以提高符合涂層與模具表面結合力,所述MT-TiCxN1-x層(4)呈柱狀結晶。
2.根據權利要求1所述的一種切邊模具用CVD復合涂層,其特征在于,所述TiN層(2)的厚度為0.75~1.25μm。
3.根據權利要求1所述的一種切邊模具用CVD復合涂層,其特征在于,所述加固層(3)的厚度為0.75~1.25μm。
4.根據權利要求1所述的一種切邊模具用CVD復合涂層,其特征在于,所述MT-TiCxN1-x層(4)的厚度為2.00~3.00μm。
5.根據權利要求1所述的一種切邊模具用CVD復合涂層,其特征在于,所述HT-TiCN層(5)的厚度為0.75~1.25μm。
6.根據權利要求1所述的一種切邊模具用CVD復合涂層,其特征在于,所述Al2O3層(6)的厚度為5.50~6.50μm。
7.一種切邊模具用CVD復合涂層的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
S1、將經過預處理后的基體(1)載入與之匹配的石墨舟皿中并裝入腔室,確保氣流通暢,調節氣體輸送管自轉速度為2rpm,以保證氣體供給均勻;
S2、開啟循環冷卻水、真空泵和H2閥,腔室內壓力設定200-400mba,然后開始升溫,當溫度升到850℃時,腔室壓力設定160mbar,并通入H2\N2\TiCl4,形成TiN打底層,沉積時間為30-60min;
S3、完成TiN打底層(2)后,保持當前溫度和腔室壓力不變,先將石墨舟皿部分遮擋,通入H2/CH4/TiCl4,在表層局部形成TiC(31)層,隨后遮擋石墨舟皿另外一部分,在表層局部形成TiCN層(32),沉積時間為20min;
S4、完成加固層(3)后,升溫到890℃時,爐腔壓力設為90mbar,分別通入H2\N2\TiCl4\CH3CN開始涂層,在此溫度下形成MT-TiCxN1-x層(4),持續時間220min;
S5、完成MT-TiCxN1-x層(4)沉積后,升溫到1010℃時,爐腔壓力設為300mbar,分別通入H2\N2\TiCl4\CH4開始涂層,在此溫度下形成過渡層HT-TiCN層(5),持續時間15min;
S6、在完成HT-TiCN層(5)后,升溫到1020℃時,爐腔壓力設為65mbar,分別通入H2\CO2\HCl\H2S\AlCl3開始涂層,在此溫度下形成Al2O3層(6),持續時間280min;
S7、沉積結束后,加熱爐降溫并移開,同時通入H2流量為30l/min冷卻200min,然后改為N2冷卻流量設定22l/min,直至爐腔溫度降到50℃以下時即可打開爐腔取出樣品,完成鍍膜。
8.根據權利要求7所述的一種切邊模具用CVD復合涂層的制備方法,其特征在于,所述S2步驟中,循環冷卻水的流量為15l/min。
9.根據權利要求7所述的一種切邊模具用CVD復合涂層的制備方法,其特征在于,所述S2步驟中,調整H2閥的壓力為1.5-2.5bar,流量設定30l/min。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于蘇州索科特新材料科技有限公司,未經蘇州索科特新材料科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011472055.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





