[發明專利]均勻送粉裝置及其送料方法

有效

• 申請號: 202011470705.1
• 申請日: 2020-12-14
• 公開（公告）號: CN112591484B
• 公開（公告）日: 2022-12-27
• 發明（設計）人: 蔣永光;楊懷玉;覃鴻志;李煥根;尹作橋;王星星
• 申請（專利權）人: 江西和美陶瓷有限公司;江西唯美陶瓷有限公司
• 主分類號: B65G65/32
• 分類號: B65G65/32;B65G15/00;B65G43/08;B65G69/04;B65G41/00
• 代理公司: 深圳市惠邦知識產權代理事務所 44271
• 代理人: 滿群

1.一種均勻送粉裝置，其特征在于，包括送粉皮帶機構、旋轉機構、放置有若干個料倉的載料平臺及控制組件，所述旋轉機構設置在載料平臺的中心且在旋轉電機的驅動下整體繞載料平臺的中心軸線旋轉，所述載料平臺上繞中心均勻布設有若干通孔，所述通孔從內向外等距擴散排列，所述料倉設置在所述通孔內；所述料倉底部成倒錐型，位于料倉的錐底部設有閥門，所述料倉內壁上還固設有滿倉感應電眼，所述滿倉感應電眼與控制組件控制連接；所述送粉皮帶機構通過導輪活動安裝在旋轉機構上表面固設的導軌上，在平移伺服電機的驅動下在導軌上做平移往復運動，使粉料能均勻的平鋪在待裝料料倉內；所述送粉皮帶機構包括支架、分別固設在支架兩端的兩對托輥軸承、固定在托輥軸承之間的主動輥與從動輥、連接主動輥與從動輥的送粉皮帶、通過電機支架固定在支架上且輸出軸與主動輥連接的皮帶伺服電機，所述支架底部設有若干導輪支架，其一導輪支架還固設有平移伺服電機，所述平移伺服電機的輸出軸與導輪連接，所述支架通過分別樞接在若干導輪支架底端的導輪活動安裝在旋轉機構上表面固設的導軌上，所述皮帶伺服電機及平移伺服電機與控制組件控制連接；所述平移伺服電機的輸出軸上套裝有第一定位齒輪，與所述定位齒輪位于同一垂直平面還固設有第一感應電眼，所述第一感應電眼與控制組件控制連接；所述第一感應電眼感應第一定位齒輪旋轉角度，反饋至控制組件，所述控制組件根據每一層料倉相互距離控制送粉皮帶機構在導軌上的平移距離。

2.根據權利要求1所述的均勻送粉裝置，其特征在于，所述旋轉機構包括基座、通過若干固定元件固定在基座的減速電機組、與減速電機組輸出軸固定連接的導軌支架、固定在所述導軌支架上的導軌、通過萬向輪支架安裝在導軌支架底面的萬向輪，所述減速電機組的輸出軸位于基座的中心，所述萬向輪在基座上表面進行轉動，所述減速電機組包括旋轉電機及減速箱，所述旋轉電機的輸出軸與減速箱連接，所述減速電機組與控制組件控制連接。

3.根據權利要求2所述的均勻送粉裝置，其特征在于，所述導軌兩側端部分別固設有用于防止導輪脫出導軌的限位桿。

4.根據權利要求2所述的均勻送粉裝置，其特征在于，所述減速電機組的輸出軸上套裝有第二定位齒輪，與所述定位齒輪位于同一水平高度固設有第二感應電眼，所述第二感應電眼與所述控制組件控制連接；所述第二感應電眼感應第二定位齒輪旋轉角度反饋至控制組件，所述控制組件根據同一層料倉的分布控制旋轉機構旋轉的角度。

5.一種根據權利要求1所述的均勻送粉裝置的送料方法，其特征在于，所述均勻送粉裝置包括：在平移伺服電機的輸出軸上套裝第一定位齒輪，與第一定位齒輪位于同一垂直平面還固設有第一感應電眼，所述旋轉機構包括基座、通過若干固定元件固定在基座的減速電機組，所述減速電機組包括旋轉電機及減速箱，所述旋轉電機的輸出軸與減速箱連接，所述減速電機組的輸出軸上套裝第二定位齒輪，與第二定位齒輪位于同一水平高度固設有第二感應電眼，載料平臺上繞中心均勻布設有若干通孔，所述通孔從內向外等距擴散排列，所述料倉設置在所述通孔內；所述料倉底部成倒錐型，位于料倉的錐底部設有閥門；控制組件分別電連接第一感應電眼、第二感應電眼與減速電機組；

所述送料方法，包括以下步驟：

⑴關閉料倉底部的閥門，啟動平移伺服電機，控制送粉皮帶機構沿導軌平移，第一感應電眼感應第一定位齒輪旋轉第一設定角度后反饋至控制組件，控制組件控制平移伺服電機停機；

⑵啟動皮帶伺服電機，送粉皮帶在主動輥的帶動下旋轉，將噴霧塔加工好的粉料送入第一層的第一料倉內，平移伺服電機驅動送粉皮帶機構在導軌上進行往復運動；

⑶滿倉感應電眼感應當前料倉滿料，反饋至控制組件，控制組件控制皮帶伺服電機停機，停止送粉；

⑷控制組件控制旋轉電機啟動，第二感應電眼感應第二定位齒輪旋轉第二設定角度后，反饋至控制組件，控制組件控制旋轉電機停機，粉料從送粉皮帶落入同一層的第二料倉內；

⑸重復步驟⑵～步驟⑷直至第一層的料倉均滿料后，控制電機控制平移伺服電機啟動，控制送粉皮帶機構沿導軌平移，第一感應電眼感應第一定位齒輪旋轉第三設定角度后反饋至控制組件，控制組件控制平移伺服電機停機，送粉皮帶將粉料送入下一層的第一料倉；

⑹重復步驟⑵～步驟⑸直至所有料倉均滿料后，控制組件控制各機構復位。