[發(fā)明專利]一種納米復合材料氧摻雜二硫化鉬/二氧化鈦納米管陣列的制備方法及其應用

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011469828.3
• 申請日: 2020-12-14
• 公開（公告）號: CN112811523A
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發(fā)明（設計）人: 李婷婷;何花;韓子銘;龔瀛;楊松;洪昶
• 申請（專利權）人: 南昌航空大學
• 主分類號: C02F1/461
• 分類號: C02F1/461;C02F1/30;C01G39/06;B82Y40/00;B82Y30/00;C02F101/30
• 代理公司: 南昌洪達專利事務所 36111
• 代理人: 馬莉

1.一種納米復合材料MoO_xS_y/TiO₂納米管陣列的制備方法，其特征在于：所述方法包括以下步驟，

(1)、以市售鈦箔為基底，利用陽極氧化法制備TiO₂納米管陣列；

(2)、將步驟(1)得到的生長在鈦箔上的TiO₂納米管陣列放在含有七鉬酸銨、硫代乙酰胺、連二亞硫酸鈉和氨水的混合溶液中，浸沒后取出，用去離子水沖洗干凈，在空氣中晾干；采用化學浴沉積法將MoO_xS_y納米粒子沉積在TiO₂納米管陣列上，重復多次，得到MoO_xS_y/TiO₂納米管陣列；

(3)、將步驟(2)得到的原位生長在鈦箔上的MoO_xS_y/TiO₂納米管陣列，用去離子水、乙醇和丙酮依次清洗，在空氣中干燥。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種納米復合材料MoO_xS_y/TiO₂納米管陣列的制備方法，其特征在于：所述步驟1中市售鈦箔的規(guī)格為3×2cm。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種納米復合材料MoO_xS_y/TiO₂納米管陣列的制備方法，其特征在于：所述步驟(2)中混合溶液中七鉬酸銨的濃度為1～10mmol/L，硫代乙酰胺的濃度為1～2mol/L，連二亞硫酸鈉的濃度為50～100mmol/L，氨水的濃度為14.8mol/L。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種納米復合材料MoO_xS_y/TiO₂納米管陣列的制備方法，其特征在于：所述步驟(2)中在混合溶液中浸沒的時間為5～10分鐘，在空氣中晾干的時間為5～10分鐘。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種納米復合材料MoO_xS_y/TiO₂納米管陣列的制備方法，其特征在于：所述步驟(2)中化學浴沉積的重復次數(shù)為3～15次。

6.一種采用如權利要求1-5任意一項所述的方法制得的MoO_xS_y/TiO₂納米管陣列在光電催化降解抗生素污染物中的應用。