[發明專利]一種基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴及其系統

在審

• 申請號: 202011468151.1
• 申請日: 2020-12-14
• 公開（公告）號: CN112588463A
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發明（設計）人: 霍元平;馬登輝;張聰;王軍鋒
• 申請（專利權）人: 江蘇大學
• 主分類號: B05B5/00
• 分類號: B05B5/00;B05B5/053;B05B12/08;B05B12/16
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴，其特征在于，包括噴嘴主體(5)，噴嘴主體(5)為正多邊體結構，噴嘴主體(5)的一端為噴射端，另一端為注液端；噴射端的端面為附著面(17)，噴射端處相鄰噴嘴外壁面(4)之間的棱角是噴嘴尖端(1)；在噴射端的每一個噴嘴外壁面(4)上均沿軸向設有液體明渠(2)，液體明渠(2)的底端延伸至附著面(17)，每個液體明渠(2)的頂端都設有出液口(3)；由注液端向噴嘴主體(5)內部沿軸向設有注液腔(8)；注液腔(8)的底部通過出液口(3)與噴嘴主體(5)外部相連通；所述噴嘴主體(5)連接高壓發生器(12)。

2.根據權利要求1所述的一種基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴，其特征在于，液體明渠(2)沿著噴嘴外壁面(4)軸向的中位線設置。

3.根據權利要求1所述的一種基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴，其特征在于，液體明渠(2)的橫截面形狀設計為弧形槽或正多邊形槽。

4.根據權利要求1所述的一種基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴，其特征在于，液體明渠(2)的長度L₀為噴嘴主體(5)的長度。

5.根據權利要求1-4中任意一項權利要求所述的一種基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴，其特征在于，出液口(3)的橫截面形狀是圓形或者多邊形。

6.根據權利要求5所述的一種基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴，其特征在于，所述噴嘴主體(5)采用金屬材料或者合金材料。

7.一種裝有如權利要求6所述基于電場增強結構的靜電霧化噴嘴的靜電霧化系統，其特征在于，包括噴嘴主體(5)，噴嘴主體(5)的注液端通過輸液管(16)連接微量注射泵(9)，由微量注射泵(9)向噴嘴主體(5)內泵入待霧化液體；噴嘴主體(5)與高壓發生器(12)相連，使得噴嘴主體(5)帶電，由于噴嘴尖端(1)電荷密度集中，因此在每個噴嘴尖端(1)產生射流(7)。

8.根據權利要求7所述的一種應用電場增強結構的靜電霧化系統，其特征在于，高壓發生器(12)的輸出端通過導線(13)與噴嘴主體(5)連接，高壓發生器(12)的接地端通過導線(13)連接地極(14)。

9.根據權利要求7所述的一種應用電場增強結構的靜電霧化系統，其特征在于，在噴嘴主體(5)的正下方設有收集電極(15)，收集電極(15)與噴嘴主體(5)之間高度可為10-80mm，收集電極(15)由金屬材料或者合金的導體制成。