[發(fā)明專利]一種用于理發(fā)的真空輔助系統(tǒng)和方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011467381.6
• 申請日: 2015-12-02
• 公開（公告）號: CN112716128A
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: S·托馬森;F·庫珀;D·艾薩克森
• 申請（專利權(quán)）人: 雷韋爾有限責(zé)任公司;S·托馬森;F·庫珀;D·艾薩克森
• 主分類號: A45D20/14
• 分類號: A45D20/14;A45D20/04
• 代理公司: 深圳市百瑞專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44240
• 代理人: 金輝

1.一種理發(fā)裝置，包括：

真空裝置；

真空腔，所述真空腔與真空裝置流體連通，所述真空腔包括：

第一開口，其位于真空腔的第一端部，具有第一橫截面面積并設(shè)置為用于容納部分頭發(fā)插入；

第二開口，其與真空腔的第一開口相對，位于真空腔的第二端部；

壁，其從第一開口延伸至第二開口，并限定內(nèi)孔；和

空氣袋，其沿內(nèi)孔的部分形成，內(nèi)孔的所述部分從位于第一開口附近并具有第二橫截面面積的第一位置延伸至位于第一位置和第二開口之間并具有第三橫截面面積的第二位置，其中第二橫截面面積大于第一橫截面面積和第三橫截面面積。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的理發(fā)裝置，進一步包括：

真空罐，其中真空裝置位于真空罐內(nèi)；和

軟管，其位于真空罐和真空腔之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的理發(fā)裝置，其中內(nèi)孔的截面的橫截面面積從第一位置到第二位置連續(xù)變化。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的理發(fā)裝置，其中內(nèi)孔的截面從第一位置到第二位置大致逐漸變小。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的理發(fā)裝置，進一步包括：

與所述真空腔流體連通的加熱空氣腔；

加熱元件；以及

風(fēng)扇，其配置為將空氣吹過加熱元件并進入加熱空氣腔。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的理發(fā)裝置，其中真空腔、加熱空氣腔、加熱元件和風(fēng)扇位于手持設(shè)備中。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的理發(fā)裝置，其中真空腔包括至少一個位于所述第一開口附近的孔，加熱空氣腔通過所述孔與所述真空腔流體連通。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的理發(fā)裝置，其中加熱空氣腔至少部分地圍繞真空腔并與真空腔流體連通以將加熱的空氣引入真空腔中。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的理發(fā)裝置，通過在空氣袋附近的壁中的至少一個孔，在加熱空氣腔和真空腔之間形成流體連通。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的理發(fā)裝置，其中至少一個孔是大致均勻地圍繞壁的周緣而定位的多個孔。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的理發(fā)裝置，其中在空氣袋處將熱空氣引入到真空腔。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的理發(fā)裝置，其中真空腔進一步包括前壁，所述前壁大體上與限定位于空氣袋附近的內(nèi)孔的壁垂直。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的理發(fā)裝置，進一步包括至少一個位于所述前壁的孔，以在空氣袋處將熱空氣引入到真空腔。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的理發(fā)裝置，其中至少一個孔是大致均勻地圍繞前壁而定位的多個孔。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的理發(fā)裝置，其中多個孔沿基本平行于穿過真空腔的真空空氣的流動的方向，在空氣袋處引導(dǎo)加熱空氣到真空腔中的引入。

16.根據(jù)權(quán)利要求5所述的理發(fā)裝置，進一步包括從所述壁向內(nèi)延伸到真空腔的內(nèi)孔的至少一個葉片。

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的理發(fā)裝置，其中至少一個葉片進一步沿著真空腔的壁的長度延伸。

18.根據(jù)權(quán)利要求5所述的理發(fā)裝置，其中多個葉片從壁向內(nèi)延伸到真空腔的內(nèi)孔，并進一步沿著真空腔的壁的長度延伸。

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的理發(fā)裝置，其中多個葉片沿著真空腔的內(nèi)周均勻地布置。