[發明專利]一種釹鐵硼表面激光熔敷重稀土絲材的方法及設備

有效

• 申請號: 202011466912.X
• 申請日: 2020-12-14
• 公開（公告）號: CN112635188B
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發明（設計）人: 羅天勇;蔣元鑫;廖穎晴;黃浩
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: H01F41/02
• 分類號: H01F41/02;H01F1/057
• 代理公司: 成都華風專利事務所(普通合伙) 51223
• 代理人: 徐豐

1.一種釹鐵硼表面激光熔敷重稀土絲材的方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、對釹鐵硼永磁材料進行預處理；

S2、將釹鐵硼永磁材料依次導入真空腔室（4）、過渡腔室（5）；

S3、將釹鐵硼永磁材料導入涂敷腔室（6），利用激光涂敷噴頭（7）加熱融化含重稀土元素的絲材，并將其熔融體涂敷于釹鐵硼永磁材料表面；

S4、將經過激光涂敷處理后的釹鐵硼永磁材料導入冷卻腔室（8）進行冷卻；

步驟S1中的預處理包括使用硝酸溶液進行酸化處理和等靜壓處理。

2.根據權利要求1所述的一種釹鐵硼表面激光熔敷重稀土絲材的方法，其特征在于，步驟S4后還包括以下步驟：

S5、對冷卻后的表面已激光涂敷重稀土元素的釹鐵硼永磁材料進行表面拋光和電鍍處理。

3.根據權利要求1或2所述的一種釹鐵硼表面激光熔敷重稀土絲材的方法，其特征在于，所述絲材中至少包含有Tb、Dy、Ho中的任一一種重稀土元素。

4.一種釹鐵硼表面激光熔敷重稀土絲材的設備，其特征在于，包括水平設置的傳送帶（1），所述傳送帶（1）上沿其送料方向依次設有酸化池（2）、等靜壓腔室（3）、真空腔室（4）、過渡腔室（5）、涂敷腔室（6）以及冷卻腔室（8），其中，所述真空腔室（4）、過渡腔室（5）、涂敷腔室（6）為一體式結構；所述涂敷腔室（6）內水平設有能夠上下移動的升降平臺（61），所述升降平臺（61）上方設有能夠水平向勻速移動的激光涂敷噴頭（7）；

所述激光涂敷噴頭（7）包括涂敷噴嘴（71），所述涂敷噴嘴（71）的上方連接有與其連通的激光腔室（72），所述激光涂敷噴頭（7）還包括包裹設置在涂敷噴嘴（71）和激光腔室（72）外部的的噴頭外殼（73）；所述噴頭外殼（73）內壁與涂敷噴嘴（71）、激光腔室（72）之間設有氣體通過腔（732），所述噴頭外殼（73）下端設有與涂敷噴嘴（71）的出口同軸設置的噴口（733），所述噴頭外殼（73）上端還設有用于向激光腔室（72）供送絲材和用于向氣流通過腔（732）供送導流氣體的輸入管（731）。

5.根據權利要求4所述的一種釹鐵硼表面激光熔敷重稀土絲材的設備，其特征在于，所述升降平臺（61）上方水平設有沿傳送帶（1）送料方向布置的第一導向軌道（62），所述第一導向軌道（62）下部水平設有能沿其延伸方向往復勻速移動的第二導向軌道（63），所述第一導向軌道（62）與第二導向軌道（63）之間的夾角為90°；所述第二導向軌道（63）下部設有能沿其延伸方向往復勻速移動的噴頭安裝裝置（64），所述噴頭安裝裝置（64）上設有定位傳感器和正對升降平臺（61）設置的激光涂敷噴頭（7）。

6.根據權利要求5所述的一種釹鐵硼表面激光熔敷重稀土絲材的設備，其特征在于，所述升降平臺（61）的兩側豎直設有與其螺紋配合且能軸向轉動的絲桿（611）。

7.根據權利要求4所述的一種釹鐵硼表面激光熔敷重稀土絲材的設備，其特征在于，所述激光腔室（72）內部設有激光發生器（721），所述涂敷噴嘴（71）內部設有沿其軸線設置且上端與激光腔室（72）連通的絕熱管道（711），所述絕熱管道（711）下端正對噴口（733）設置。

8.根據權利要求7所述的一種釹鐵硼表面激光熔敷重稀土絲材的設備，其特征在于，所述涂敷噴嘴（71）的下部外壁為與水平面呈50°夾角設置的漏斗狀結構，所述噴頭外殼（73）在噴口（733）周圍設有內壁與涂敷噴嘴（71）的下部外壁平行設置的導流部（734）。