[發明專利]一種天線反射器雙面金屬薄膜圖形整體精確定位方法

在審

• 申請號: 202011464916.4
• 申請日: 2020-12-14
• 公開（公告）號: CN112736477A
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: 尚凱文;王瑞;吳敢;曹生珠;魏廣;楊建平;駱水蓮;趙棟才;格桑頓珠;張延帥
• 申請（專利權）人: 蘭州空間技術物理研究所
• 主分類號: H01Q15/00
• 分類號: H01Q15/00;H01Q15/14
• 代理公司: 北京理工大學專利中心 11120
• 代理人: 田亞琪

1.一種天線反射器雙面金屬薄膜圖形整體精確定位方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟一、天線反射器殼體成形后，在反射器裙邊設定位置制作正反雙面一體化靶標；

步驟二、利用反射器裝夾工裝，將反射器裝夾并固定在刻蝕加工平臺上；

步驟三、采用CCD可視放大技術輔助完成天線反射器正面或反面三個靶標點的定位測量。

2.如權利要求1所述的一種天線反射器雙面金屬薄膜圖形整體精確定位方法，其特征在于，步驟一中，所述正反雙面一體化靶標即為在反射器裙邊加工的通孔，以確保雙面靶標點的一致性，所述通孔中心線相互平行且與口徑平面垂直，以通孔中心點作為正、反面定位靶標點，其中，正反雙面一體化靶標的數量不少于3個。

3.如權利要求1所述的一種天線反射器雙面金屬薄膜圖形整體精確定位方法，其特征在于，步驟一中，對于不能在表面進行開孔的反射器，正反雙面一體化靶標即為在反射器正反面對應位置分別粘貼的紙質靶標，分別測量正反面靶標點及反射器型面數據，并將正反面的測量數據轉化為同一坐標系下的靶標點數據和反射器型面數據；利用正反面的靶標點依次進行定位及刻蝕加工；其中，正反雙面一體化靶標的數量應分別不少于3個。

4.如權利要求1所述的一種天線反射器雙面金屬薄膜圖形整體精確定位方法，其特征在于，步驟二中，所述裝夾工裝在裝夾反射器過程中不產生應力及變形，且后續的刻蝕加工過程中裝夾工裝與激光刻蝕頭無干涉。

5.如權利要求1所述的一種天線反射器雙面金屬薄膜圖形整體精確定位方法，其特征在于，步驟三中，CCD可視放大技術輔助定位測量的具體過程為通過多軸數控加工設備的移動機構和CCD攝像機的捕獲功能以及圖像采集功能獲得視場范圍內待加工工件的圖像信號，并利用計算機進行圖像處理獲取工件定位點及特征點在機器坐標系中的坐標值。