[發明專利]一種回轉窯窯位的調整裝置及回轉窯

有效

• 申請號: 202011462706.1
• 申請日: 2020-12-11
• 公開（公告）號: CN112556406B
• 公開（公告）日: 2023-01-06
• 發明（設計）人: 劉長江;齊典旭;高培程;楊金保;賈國利;王剛;王長濤;沈國良
• 申請（專利權）人: 北京首鋼股份有限公司
• 主分類號: F27B7/00
• 分類號: F27B7/00;F27B7/22;F27B7/26;F27B7/42
• 代理公司: 北京華沛德權律師事務所 11302
• 代理人: 修雪靜

1.一種回轉窯窯位的調整裝置，其特征在于，所述調整裝置包括調整組件、測距組件和控制組件；

所述調整組件設置在所述回轉窯的Ⅱ組頂輪基礎上，包括：

摩擦劑單元和摩擦劑輸運管路，所述摩擦劑輸運管路一端連接摩擦劑單元，另一端開口并向回轉窯的Ⅱ組頂輪延伸，所述摩擦劑輸運管路上設有第一控制閥；

潤滑劑單元和潤滑劑輸運管路，所述潤滑劑輸運管路一端連接潤滑劑單元，另一端開口并向所述Ⅱ組頂輪延伸，所述潤滑劑輸運管路上設有第二控制閥；

所述測距組件用于實時測量標定點與所述回轉窯的Ⅱ組托圈之間的距離值d；所述測距組件為非接觸測距元件；

所述控制組件連接所述第一控制閥、第二控制閥和所述測距組件；當檢測到所述距離值d在第一預設范圍時，所述控制組件控制所述第二控制閥開啟、第一控制閥關閉，在所述Ⅱ組頂輪和所述Ⅱ組托圈之間添加潤滑劑；當檢測到所述距離值d在第二預設范圍時，所述控制組件控制所述第二控制閥關閉、第一控制閥開啟，在所述Ⅱ組頂輪和所述Ⅱ組托圈之間添加摩擦劑，包括：當所述距離值d滿足d₀+d₂dd₀+d₃時，所述控制組件控制所述第二控制閥關閉、第一控制閥開啟，以使所述調整組件在所述Ⅱ組頂輪和所述Ⅱ組托圈之間添加摩擦劑；當所述距離值d滿足d≤d₀+d₂時，所述控制組件控制所述第二控制閥關閉、第一控制閥關閉，以使所述調整組件停止添加摩擦劑；其中，所述d₀為回轉窯上行極限位，所述d₂為回轉窯下行上限位，所述d₃為回轉窯下行極限位。

2.如權利要求1所述的調整裝置，其特征在于，所述當檢測到所述距離值d在第一預設范圍時，所述控制組件控制所述第二控制閥開啟、第一控制閥關閉，在所述Ⅱ組頂輪和所述Ⅱ組托圈之間添加潤滑劑，具體包括：

當所述距離值d滿足dd₀+d₁時，所述控制組件控制所述第二控制閥開啟、第一控制閥關閉，以使所述調整組件開始在所述Ⅱ組頂輪和所述Ⅱ組托圈之間添加潤滑劑；

當所述距離值d滿足dd₀+d₂時，所述控制組件控制所述調整組件持續添加潤滑劑；

當所述距離值d滿足d≥d₀+d₂時，所述控制組件控制所述第二控制閥關閉、第一控制閥關閉，以使所述調整組件停止添加潤滑劑；

其中，所述d₀為回轉窯上行極限位，所述d₁為回轉窯上行上限位，所述d₂為回轉窯下行上限位。

3.如權利要求2所述的調整裝置，其特征在于，所述d₀的取值范圍為500mmd₀≤1000mm；所述d₁的取值范圍為5mmd₁≤10mm；所述d₂的取值范圍為65mmd₀≤70mm。

4.如權利要求1所述的調整裝置，其特征在于，所述d₀的取值范圍為500mmd₀≤1000mm；所述d₂的取值范圍為65mmd₂≤70mm；所述d₃的取值范圍為75mmd₀≤80mm。

5.如權利要求1所述的調整裝置，其特征在于，所述調整組件還包括第一球形閥和第二球形閥；

所述第一球形閥通過管路與所述第一控制閥并聯，所述第二球形閥通過管路與所述第二控制閥并聯。

6.如權利要求1所述的調整裝置，其特征在于，所述第一控制閥和所述第二控制閥均為動力閥。

7.如權利要求1所述的調整裝置，其特征在于，所述摩擦劑為石英砂。

8.如權利要求1所述的調整裝置，其特征在于，所述潤滑劑為二硫化鉬粉末。

9.一種回轉窯，其特征在于，所述回轉窯包括Ⅱ組頂輪基礎、Ⅱ組頂輪和Ⅱ組托圈，在所述Ⅱ組頂輪基礎上設有如權利要求1～8任一項所述的調整裝置。