[發明專利]一種電致變色膜系中的鉭酸鋰薄膜的制備方法

有效

• 申請號: 202011462541.8
• 申請日: 2020-12-14
• 公開（公告）號: CN112626474B
• 公開（公告）日: 2023-02-17
• 發明（設計）人: 沈洪雪;湯永康;李剛;姚婷婷;王天齊;金克武
• 申請（專利權）人: 中建材玻璃新材料研究院集團有限公司;玻璃新材料創新中心（安徽）有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/08;G02F1/1523
• 代理公司: 安徽省蚌埠博源專利商標事務所(普通合伙) 34113
• 代理人: 陳俊

本發明公開一種電致變色膜系中的鉭酸鋰薄膜的制備方法，包括以下步驟：S1、取20Ω的ITO鍍膜玻璃作為襯底；S2、將襯底裝入樣品架，送入磁控濺射鍍膜腔室；以鉭酸鋰靶為靶材；S3、對磁控濺射鍍膜腔室抽真空，當真空度達到10^?6Pa時，對襯底進行100～200℃的加熱處理；S4、向磁控濺射鍍膜腔室內通入氬氣，開啟射頻電源，使靶材起輝；然后打開直流電源，在射頻與直流的耦合過程中對靶材進行預濺射；S5、預濺射完畢后通入氧氣，通過磁控濺射沉積鉭酸鋰薄膜；S6、待樣品架自然冷卻至室溫后，取出襯底，得到鉭酸鋰薄膜；該方法制備得到的鉭酸鋰薄膜可控性、重復性強，提升膜系的整體性能。

技術領域

本發明涉及功能薄膜技術領域，具體是一種電致變色膜系中的鉭酸鋰薄膜的 制備方法。

背景技術

鉭酸鋰材料近年來作為一種新型的功能材料而備受國內外專家的關注，它具有高的熱釋放電系數，居里溫度高，介電常數小等特性而具有良好的應用前景，而其具有的低壓驅動下光學性能可實現可逆轉變的而備受關注，最直接的表面特征就是電壓不同，材料的顏色隨之發生變化，故其在電致變色材料中越來越占據主導地位，作為一個主膜層，其重要性已經不容忽視。鉭酸鋰薄膜性能決定著整個電致變色薄膜的總體功能。因此對膜層的性能進行優化，同時提高其濺射效率等對整個膜組的功能性都有較大的改進。

發明內容

本發明的目的在于提供一種電致變色膜系中的鉭酸鋰薄膜的制備方法，該方法制備得到的鉭酸鋰薄膜可控性、重復性強，提升膜系的整體性能。

本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種電致變色膜系中的鉭酸鋰薄膜的制備方法，包括以下步驟：

S1、取20Ω的ITO鍍膜玻璃作為襯底；

S2、將襯底裝入樣品架，送入磁控濺射鍍膜腔室；以鉭酸鋰靶為靶材；

S3、對磁控濺射鍍膜腔室抽真空，當真空度達到10^-6Pa時，對襯底進行100～200℃的加熱處理；

S4、向磁控濺射鍍膜腔室內通入氬氣，開啟射頻電源，使靶材起輝；然后打開直流電源，在射頻與直流的耦合過程中對靶材進行預濺射；

S5、預濺射完畢后通入氧氣，通過磁控濺射沉積鉭酸鋰薄膜；

S6、待樣品架自然冷卻至室溫后，取出襯底，得到鉭酸鋰薄膜。

進一步的，所述鉭酸鋰薄膜的厚度為100nm。

進一步的，所述步驟S5磁控濺射時，射頻濺射功率為1250w，直流濺射功率為1000w，氬氣通入量為450sccm，時間120min。

本發明的有益效果是：

一、磁控濺射只進行鉭酸鋰薄膜的鍍制，工藝簡單，可控性強。

二、在鍍膜過程中，采用射頻和直流相耦合的方式，可以有效克服鉭酸鋰濺射速率低的問題。

三、制備薄膜的過程中，先對襯底進行預加熱，這樣可以減少薄膜的內應力，有利于膜層之間更穩定的結合；同時，薄膜制備完成以后，由于溫度仍較高，薄膜進行隨腔室冷卻，進一步防止薄膜的氧化。

四、在制備過程中通入氧氣，避免制備的鉭酸鋰產生大量的氧缺陷。

具體實施方式

本發明提供一種電致變色膜系中的鉭酸鋰薄膜的制備方法，包括以下步驟：

S1、取20Ω的ITO鍍膜玻璃作為襯底；

S2、將襯底裝入樣品架，送入磁控濺射鍍膜腔室；以純度為99.99%的陶瓷鉭酸鋰靶為靶材；