[發(fā)明專利]一種工業(yè)在線CT輻射屏蔽裝置及CT檢測(cè)設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011462538.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112666193A | 公開(公告)日: | 2021-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙紀(jì)元;盧秉恒;楊高磊;史立超 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西安增材制造國(guó)家研究院有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N23/046 | 分類號(hào): | G01N23/046 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211 | 代理人: | 鄭麗紅 |
| 地址: | 710300 陜西省西*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 工業(yè) 在線 ct 輻射 屏蔽 裝置 檢測(cè) 設(shè)備 | ||
1.一種工業(yè)在線CT輻射屏蔽裝置,其特征在于:包括蒙皮(11)、主體框架(12)、屏蔽層(13)和屏蔽層調(diào)整組件(14);
所述主體框架(12)為多層,多層主體框架(12)由內(nèi)向外依次嵌套設(shè)置,且主體框架(12)上設(shè)置有安裝軌道(121);
所述屏蔽層(13)為N層,N層屏蔽層(13)安裝在主體框架(12)的安裝軌道(121)內(nèi),且屏蔽層(13)通過屏蔽層調(diào)整組件(14)固定在主體框架(12)上,其中,N大于等于1;
所述蒙皮(11)設(shè)置在主體框架(12)的內(nèi)側(cè)和外側(cè),用于包覆主體框架(12);
所述主體框架(12)和蒙皮(11)的兩側(cè)設(shè)置有開口(122),且開口(122)處設(shè)置有鉛橡膠防止輻射泄露,用于實(shí)現(xiàn)大型環(huán)形零件的檢測(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)在線CT輻射屏蔽裝置,其特征在于:所述屏蔽層調(diào)整組件(14)包括第一墊板(141)、第二墊板(142)和調(diào)整螺栓(143),所述第一墊板(141)設(shè)置在屏蔽層(13)外側(cè),所述第二墊板(142)設(shè)置在主體框架(12)外側(cè),所述調(diào)整螺栓(143)穿過第二墊板(142),其末端抵靠在第一墊板(141)上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的工業(yè)在線CT輻射屏蔽裝置,其特征在于:所述主體框架(12)采用一體式的三角形加強(qiáng)筋結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的工業(yè)在線CT輻射屏蔽裝置,其特征在于:所述主體框架(12)的上方設(shè)置有連接裝置(15),主體框架(12)通過連接裝置(15)懸掛在懸臂上,所述連接裝置(15)為旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)臺(tái)或三維調(diào)整裝置,用于實(shí)現(xiàn)主體框架(12)多個(gè)方向的移動(dòng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的工業(yè)在線CT輻射屏蔽裝置,其特征在于:所述屏蔽層(13)主要由鉛層和設(shè)置在鉛層外側(cè)的鐵皮組成。
6.一種CT檢測(cè)設(shè)備,其特征在于:包括探測(cè)器(3)、射線源(2)以及權(quán)利要求1至5任一所述的工業(yè)在線CT輻射屏蔽裝置(1),所述主體框架(12)的頂端與連接裝置(15)連接,所述連接裝置(15)為旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)臺(tái),所述探測(cè)器(3)、射線源(2)均設(shè)置在主體框架(12)上,被檢測(cè)件(4)整體設(shè)置在工業(yè)在線CT輻射屏蔽裝置(1)內(nèi)。
7.一種CT檢測(cè)設(shè)備,其特征在于:包括探測(cè)器(3)、射線源(2)以及權(quán)利要求1至5任一所述的工業(yè)在線CT輻射屏蔽裝置(1),所述主體框架(12)的頂端與連接裝置(15)連接,所述連接裝置(15)為三維調(diào)整裝置,所述探測(cè)器(3)、射線源(2)均設(shè)置在主體框架(12)上,被檢測(cè)件(4)為環(huán)形零件,設(shè)置在工作轉(zhuǎn)臺(tái)上,環(huán)形零件的部分側(cè)壁設(shè)置在工業(yè)在線CT輻射屏蔽裝置(1)內(nèi)。
8.一種CT檢測(cè)設(shè)備,其特征在于:包括探測(cè)器(3)、射線源(2)、工作轉(zhuǎn)臺(tái)(5)以及權(quán)利要求1至5任一所述的工業(yè)在線CT輻射屏蔽裝置(1),所述探測(cè)器(3)、射線源(2)均設(shè)置在主體框架(12)上,被檢測(cè)件(4)設(shè)置在工作轉(zhuǎn)臺(tái)(5)上,且被檢測(cè)件(4)整體位于工業(yè)在線CT輻射屏蔽裝置(1)內(nèi)。
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