[發(fā)明專利]鎓鹽化合物、化學增幅抗蝕劑組成物、以及圖案形成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011462505.1
• 申請日: 2020-12-11
• 公開（公告）號: CN112979458B
• 公開（公告）日: 2023-08-25
• 發(fā)明（設計）人: 藤原敬之;渡邊朝美;片山和弘
• 申請（專利權(quán)）人: 信越化學工業(yè)株式會社
• 主分類號: C07C59/68
• 分類號: C07C59/68;C07C65/21;C07C59/66;C07C59/90;C07C51/41;C07C381/12;C07D333/74;C07C69/92;C07C69/76;C07C309/75;C07C69/757;C07D335/02;C07D307/00;G0
• 代理公司: 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種鎓鹽化合物，由以下式(1)表示；

式中，m、n及k各自獨立地為0或正整數(shù)；但是，1≤m+n+k；

R¹為鹵素原子、三氟甲基或三氟甲氧基；

R²為氫原子或亦可含有雜原子的碳數(shù)1～15的烴基；

L¹為-C(＝O)-、-C(＝O)-O-、-S(＝O)-、-S(＝O)₂-或-S(＝O)₂-O-；

L²為*-C(＝O)-、*-C(＝O)-O-、*-S(＝O)-、*-S(＝O)₂-或*-S(＝O)₂-O-；*

為與環(huán)R的原子鍵；

L³為單鍵或碳數(shù)1～15的烷二基，該烷二基中的氫原子亦可經(jīng)含雜原子的基團取代，該烷二基中的-CH₂-亦可經(jīng)-O-、-C(＝O)-、-S-、-S(＝O)-、-S(＝O)₂-或-N(R^N)-取代；但是，L³為烷二基時，與式中的-OCF₂CO₂^-鍵結(jié)的碳原子不和式中的氧原子以外的雜原子鍵結(jié)；R^N為氫原子或碳數(shù)1～10的烴基，該烴基中的氫原子亦可經(jīng)含雜原子的基團取代，該烴基中的-CH₂-亦可經(jīng)-O-、-C(＝O)-或-S(＝O)₂-取代；

k為0時，環(huán)R為(m+n+1)價環(huán)狀烴基，k為正整數(shù)時，環(huán)R為含有k個L¹的(m+n+1)價環(huán)狀烴基，該環(huán)狀烴基中的氫原子亦可經(jīng)含雜原子的基團取代，該環(huán)狀烴基中的-CH₂-亦可經(jīng)-O-或-S-取代，形成所述環(huán)狀烴基的碳原子數(shù)為3～15；

M⁺為锍陽離子或錪陽離子。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎓鹽化合物，其中，L³為單鍵。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鎓鹽化合物，其中，環(huán)R為芳香族烴基。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鎓鹽化合物，其中，m為1以上的整數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鎓鹽化合物，由以下式(2)表示；

式中，R¹、R²、L²及M⁺與前述相同；

m'、n'及j為符合0≤m'≤5、0≤n'≤5、0≤j≤4、1≤m'+n'≤5及1≤m'+n'+j≤5的整數(shù)；

R³為氫原子、羥基、羧基或碳數(shù)1～15的烴基，該烴基中的氫原子亦可經(jīng)含雜原子的基團取代，該烴基中的-CH₂-亦可經(jīng)-O-或-C(＝O)-取代；j為2～4的整數(shù)時，各R³彼此可相同也可不同，2個R³亦可彼此鍵結(jié)并與它們所鍵結(jié)的碳原子一起形成環(huán)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的鎓鹽化合物，其中，m'為1以上的整數(shù)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鎓鹽化合物，其中，R¹為碘原子。