[發明專利]一種具有防止反射功能的光學薄膜技術

在審

• 申請號: 202011462148.9
• 申請日: 2020-12-14
• 公開（公告）號: CN112521642A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發明（設計）人: 錢佳琪;陳小剛
• 申請（專利權）人: 蘇州蘇克新型材料有限公司
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;C08J9/26;C08J7/00;C08L33/12;G02B1/111
• 代理公司: 蘇州銘浩知識產權代理事務所(普通合伙) 32246
• 代理人: 潘志淵

1.一種具有防止反射功能的光學薄膜技術，包括：S1配置共混聚合物溶液、S2基板清洗、S3旋轉涂膜、S4烘干、S5去除PS；其特征在于：所述S1配置共混聚合物溶液：共混溶液的濃度和其中PMMA與PS的比例是影響制得納米多孔膜微孔結構的很重要的參數，濃度太高，會影響旋涂過程中勻膠的均勻性，增加旋涂后薄膜的表面粗糙度和膜厚，使得薄膜對入射光散射加劇，呈現不透明狀態；濃度太低，不利于形成理想的微孔結構，因此選用聚合物溶質與溶劑質量比為1/40的溶液濃度，溶劑THF、溶質PMMA與PS、濃度1/40~1/20，溶劑CHCl_3、溶質PMMA與PS、濃度1/40，溶劑甲苯、溶質PMMA與PS、濃度1/40，溶劑THF、溶質PMMA、濃度1%~5%，溶劑CHCl₃、溶質PMMA、濃度1%~3%；所述S2基板清洗：圓形K9玻璃基板，厚度1mm、直徑20mm，（1）將玻璃基板在強氧化劑洗液（濃硫酸：雙氧水=1：2）中清洗5分鐘；（2）用去離子水反復沖洗，至覆蓋在基板上呈現均勻、連續的水膜，而不是聚集成滴，或者成股流下；（3）水洗后的基板使用乙醇乙醚溶液清洗，無紡布擦干；所述S3旋轉涂膜：處理好的基板應馬上進行旋轉涂膜，使用的是臺式勻膠機，基板繞垂直于基板面的中軸旋轉，軸與抽氣泵連接,旋涂過程中開動氣泵抽氣，將基板吸附在旋轉臺上，第一階段是滴加溶液，用吸管吸取共混聚合物溶液滴加到玻璃基板中心，吸取的量要足夠鋪滿基板，由于之后的步驟中隨著基板的旋轉會把部分溶液甩出去，留下形成薄膜的溶液必然多于滴加的溶液，要讓基板被溶液充分潤濕，否則會影響薄膜與基板的附著，無法形成均勻的薄膜；第二階段為預轉，基板從靜止開始加速旋轉，由于旋轉速度較低，部分溶液在離心力的作用下開始向基板邊緣移動，基板表面形成一層不均勻的液膜，實驗中選擇預轉速度為1000轉/分(pm)，預轉時間為3s；第三階段為高速旋轉涂覆薄膜，轉速加快到每分鐘幾千轉并穩定下來，離心力的變大使得溶液被快速甩離基板，液膜厚度逐漸變薄，同基板之間的粘附力與表面張力、離心力共同作用下逐漸達到平衡，此過程中，可以看到液膜變薄導致的干涉條紋變化，最終形成顏色一致的干涉條紋，薄膜厚度均勻，選擇高速勻膠速度為3000rpm，時間為30s；第四階段是指基板勻速轉動的過程中，溶劑蒸發，留下溶質組成的聚合物薄膜，轉速恒定的時候，溶劑蒸發是影響薄膜厚度和微結構的主要因素，溶劑大量揮發，會使液膜粘度大幅度上升，共混溶液逐漸分離為PMMA和PS各自富集的兩種相，共混聚合物溶液的相分離主要發生在旋涂薄膜過程的高速旋轉、溶劑蒸發階段；所述S4烘干：將旋涂好的共混聚合物薄膜放進烘箱中烘干，促使薄膜內殘留的溶劑充分揮發，使薄膜于燥，以增加聚合物薄膜與基底的粘附性和機械強度；根據聚合物材料自身的玻璃化溫度及其他性能，選擇合適的退火溫度；

加熱結束，不要打開烘箱，試樣隨爐冷卻，避免PMMA吸水；所述S5去除PS：將熱固化的共混聚合物薄膜浸入環己烷，浸泡時間為幾十分鐘，取出，吹干表面溶劑，再進行烘烤。