[發(fā)明專利]遮光PC材料及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011461971.8 | 申請日： | 2020-12-09 |
| 公開（公告）號： | CN112500692A | 公開（公告）日： | 2021-03-16 |
| 發(fā)明（設計）人： | 樊紹彥;申會員;何洋;秦強強;陳泉;孔德玉;丁曉龍 | 申請（專利權）人： | 公牛集團股份有限公司 |
| 主分類號： | C08L69/00 | 分類號： | C08L69/00;C08L51/08;C08L27/18;C08L51/04;C08K13/06;C08K9/12;C08K7/28;C08K3/34;C08K9/02;C08K9/06;C08K9/10;C08K5/523 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 遮光 pc 材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種遮光PC材料，其特征在于，所述遮光PC材料的制備原料包括：聚碳酸酯、酸刻蝕的玻璃微珠和用偶聯(lián)劑處理過的滑石粉，其中，所述用偶聯(lián)劑處理過的滑石粉搭載于所述酸刻蝕的玻璃微珠。
2.根據(jù)權利要求1所述的遮光PC材料，其特征在于，所述酸刻蝕的玻璃微珠的制備方法包括：用硫酸和磷酸緩沖溶液對空心玻璃微珠進行酸刻蝕處理。
3.根據(jù)權利要求2所述的遮光PC材料，其特征在于，所述磷酸緩沖溶液包括pH為1-5的NaH2PO4或KH2PO4溶液。
4.根據(jù)權利要求2所述的遮光PC材料，其特征在于，所述硫酸的濃度為95％-98％。
5.根據(jù)權利要求2-4任一項所述的遮光PC材料，其特征在于，所述硫酸和所述磷酸緩沖溶液的體積比為10:1-3。
6.根據(jù)權利要求2所述的遮光PC材料，其特征在于，所述酸刻蝕的玻璃微珠的制備方法還包括：用偶聯(lián)劑包覆所述酸刻蝕處理后的所述空心玻璃微珠。
7.根據(jù)權利要求2所述的遮光PC材料，其特征在于，所述空心玻璃微珠的粒徑為50-100μm，壁厚為1-4μm，折射率為1.9-2.2μm。
8.根據(jù)權利要求1所述的遮光PC材料，其特征在于，所述酸刻蝕的玻璃微珠的孔隙率為15-30％，所述酸刻蝕的玻璃微珠的凹陷或微孔的直徑為3-5μm。
9.根據(jù)權利要求1所述的遮光PC材料，其特征在于，所述用偶聯(lián)劑處理過的滑石粉的制備方法包括：將偶聯(lián)劑醇溶液加入到分散后的滑石粉溶液中，超聲處理。
10.根據(jù)權利要求9所述的遮光PC材料，其特征在于，所述偶聯(lián)劑醇溶液的制備方法包括：將硅烷偶聯(lián)劑和乙醇配成質量分數(shù)為0.05％-2％的溶液；所述硅烷偶聯(lián)劑的用量為滑石粉的用量的0.25％-2％。
11.根據(jù)權利要求9所述的遮光PC材料，其特征在于，所述滑石粉溶液使用的滑石粉的粒徑為1-2μm，折射率為1.54-1.59。
12.根據(jù)權利要求1-4或6-11任一項所述的遮光PC材料，其特征在于，所述用偶聯(lián)劑處理過的滑石粉搭載于所述酸刻蝕的玻璃微珠的方法包括：將所述用偶聯(lián)劑處理過的滑石粉和所述酸刻蝕的玻璃微珠混合，并在轉速為4000-5000rpm條件下攪拌。
13.根據(jù)權利要求1所述的遮光PC材料，其特征在于，所述遮光PC材料的制備原料還包括：阻燃劑、抗滴落劑、相容劑、抗氧化劑、增韌劑和潤滑劑中的至少一種。
14.一種權利要求1-13任一項所述的遮光PC材料的制備方法，其特征在于，將所述遮光PC材料的各個制備原料共混擠出。
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