[發(fā)明專利]一種含硫氣體凈化工藝

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011461802.4
• 申請日: 2020-12-08
• 公開（公告）號: CN112657307B
• 公開（公告）日: 2022-06-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙傳軍;雷婧;郭利鑫;邢加博;項裕橋;何相君
• 申請（專利權(quán)）人: 寧波中科遠(yuǎn)東催化工程技術(shù)有限公司
• 主分類號: B01D53/02
• 分類號: B01D53/02;B01D53/86;B01D53/48;C10K1/32;C10K1/34;B01J20/22;B01J20/28;B01J20/34;B01J20/30
• 代理公司: 寧波成舟專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33306
• 代理人: 楊新勇

1.一種含硫氣體凈化工藝，其特征在于，包括以下工序：

（1）凈化工序：將含硫氣體通入凈化單元，通過所述凈化單元內(nèi)的吸附劑吸附、轉(zhuǎn)化脫除所述含硫氣體中的硫化物，得到潔凈產(chǎn)品氣；

（2）解吸脫附工序:當(dāng)所述吸附劑吸附飽或接近飽和時，往所述凈化單元內(nèi)通再生氣，對所述吸附劑進(jìn)行脫附再生，所述凈化單元進(jìn)入熱解吸狀態(tài)；

所述吸附劑為表面由金屬氧化物原位修飾的改性分子篩，

所述改性分子篩通過包括如下步驟的方法制備得到：

（1）分別配制濃度為0.3～0.6M的二甲基咪唑水溶液A和濃度為40～60mM的可溶性鈷鹽水溶液B；

（2）將所述二甲基咪唑水溶液A和所述可溶性鈷鹽水溶液B混合后得到溶液C，將分子篩浸沒在所述溶液C中0.5～4h后取出，洗凈、干燥后得到MOF原位修飾的前體D；

（3）將所述前體D在400～600℃條件下熱處理，所述前體D轉(zhuǎn)化為對應(yīng)的鈷氧化物，得到所述金屬氧化物原位修飾的改性分子篩。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含硫氣體凈化工藝，其特征在于，在所述凈化工序中，所述含硫氣體中的硫化物被轉(zhuǎn)化為單質(zhì)硫。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含硫氣體凈化工藝，其特征在于，所述二甲基咪唑水溶液A的濃度為0.4～0.5M，所述可溶性鈷鹽水溶液B的濃度為45～55mM，所述前體D在500～550℃條件下進(jìn)行熱處理。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含硫氣體凈化工藝，其特征在于，在所述步驟（2）中，所述分子篩在進(jìn)行MOF原位修飾前依次經(jīng)過焙燒、酸洗和干燥步驟。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含硫氣體凈化工藝，其特征在于，所述分子篩包括SAPO型分子篩、ZSM型分子篩、A型分子篩、Y型分子篩、X型分子篩和ALPO型分子篩中的一種或多種，所述分子篩具有蜂窩狀結(jié)構(gòu)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含硫氣體凈化工藝，其特征在于，所述金屬氧化物具有納米尺寸的三維形貌。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含硫氣體凈化工藝，其特征在于，所述凈化單元包括多臺并聯(lián)的吸附塔，每個所述吸附塔內(nèi)填裝有所述改性分子篩；

所述吸附塔的工作方式為：至少有一臺吸附塔在進(jìn)行所述脫附工序，其余吸附塔在進(jìn)行所述凈化工序，各吸附塔之間輪流切換工作方式。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的含硫氣體凈化工藝，其特征在于，所述脫附工序步驟為：將部分所述潔凈產(chǎn)品氣作為再生氣，將所述再生氣加熱至140～270℃后通入進(jìn)行所述凈化工序的吸附塔；被吸附在所述吸附劑內(nèi)的硫化物在高溫下熱解吸進(jìn)入所述再生氣內(nèi)生成解吸氣，所述解吸氣與含硫氣體混合后通往凈化單元經(jīng)凈化后回用或被通往其它處理單元。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的含硫氣體凈化工藝，其特征在于，所述脫附工序持續(xù)4～6h。