[發(fā)明專(zhuān)利]用于在調(diào)節(jié)驅(qū)動(dòng)器中進(jìn)行轉(zhuǎn)矩測(cè)量的裝置和方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011459767.2
• 申請(qǐng)日: 2020-12-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112985662A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: B·霍夫曼
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 歐瑪里斯特有限責(zé)任兩合公司
• 主分類(lèi)號(hào): G01L5/00
• 分類(lèi)號(hào): G01L5/00;G01L3/02
• 代理公司: 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 劉盈

1.一種用于確定傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的轉(zhuǎn)矩的方法，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)尤其是在調(diào)節(jié)驅(qū)動(dòng)器(14)上的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，其中，在所述轉(zhuǎn)矩的傳遞鏈中布置能彈性變形的彎曲元件(4)，所述彎曲元件根據(jù)所述轉(zhuǎn)矩而變形，其特征在于，通過(guò)利用霍爾傳感器(13)的距離測(cè)量來(lái)探測(cè)所述變形的程度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，通過(guò)確定所述霍爾傳感器相對(duì)于磁性有源的配合件的相對(duì)位置來(lái)探測(cè)所述變形的程度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述磁性有源的配合件是永磁體。

4.根據(jù)權(quán)利要求1的前序部分所述的方法、尤其是根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述彎曲元件具有面狀延伸部，其特征在于，探測(cè)在面狀延伸部方向上的變形的程度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述彎曲元件構(gòu)造為板狀支架中的舌狀件，尤其是，第一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)級(jí)緊固在所述支架上，并且第二傳動(dòng)機(jī)構(gòu)級(jí)緊固在彎曲元件上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述彎曲元件的軸向偏移用于補(bǔ)償軸向的位置公差和/或制造公差。

7.一種用于確定傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的轉(zhuǎn)矩的裝置(1)，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)尤其是調(diào)節(jié)驅(qū)動(dòng)器(14)的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于，在所述轉(zhuǎn)矩的傳遞鏈中布置有能彈性變形的彎曲元件，所述彎曲元件根據(jù)所述轉(zhuǎn)矩而變形，并且能夠用于探測(cè)彎曲元件的變形的傳感器組件(8)構(gòu)成能夠作為整體來(lái)安裝的結(jié)構(gòu)單元。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置(1)，其特征在于，所述傳感器組件(8)具有傳感器(13)和配合件(12)，并且傳感器(13)優(yōu)選無(wú)接觸地檢測(cè)傳感器(13)與配合件(12)的相對(duì)位置，以便檢測(cè)彎曲元件(4)的變形的程度。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的裝置(1)，其特征在于，所述傳感器(13)是霍爾傳感器，并且所述配合件是磁體、尤其是永磁體。

10.一種用于確定傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的轉(zhuǎn)矩的裝置(1)、尤其是根據(jù)權(quán)利要求7至9中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述裝置具有至少兩個(gè)彎曲元件(4)，所述至少兩個(gè)彎曲元件能夠基本上切向于傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)方向偏移，其中，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的固定部分能夠緊固在各彎曲元件上，并且所述裝置具有傳感器單元(8)，所述傳感器單元構(gòu)造用于確定彎曲元件(4)的偏移。

11.根據(jù)權(quán)利要求7至10中任一項(xiàng)所述的裝置(1)，其特征在于，彎曲元件(4)在一側(cè)或兩側(cè)被夾緊。

12.根據(jù)權(quán)利要求7至11中任一項(xiàng)所述的裝置(1)，其特征在于，所述裝置具有基部(2)，所述基部具有用于傳動(dòng)機(jī)構(gòu)軸的空隙(3)，所述空隙尤其是圓形的空隙，并且各所述彎曲元件(4)均勻地圍繞所述空隙分布地布置。

13.根據(jù)權(quán)利要求7至12中任一項(xiàng)所述的裝置(1)，其特征在于，所述裝置具有基板(2)，并且各所述彎曲元件(4)構(gòu)造為板平面中的舌狀件，并且各所述彎曲元件(4)的偏移在所述板平面中發(fā)生。

14.根據(jù)權(quán)利要求7至13中任一項(xiàng)所述的裝置(1)，其特征在于，對(duì)所述偏移的確定基于電容的、光學(xué)的、電阻的、壓阻的、壓電的或磁性的作用。

15.根據(jù)權(quán)利要求7至14中任一項(xiàng)所述的裝置(1)，其特征在于，所述裝置(1)具有用于從所述偏移中計(jì)算轉(zhuǎn)矩的器件或者能夠與用于從所述偏移中計(jì)算轉(zhuǎn)矩的器件連接。