[發明專利]元件激光損傷閾值的測試方法

有效

• 申請號: 202011457387.5
• 申請日: 2020-12-10
• 公開（公告）號: CN112697400B
• 公開（公告）日: 2023-01-20
• 發明（設計）人: 王胭脂;郭可升;陳瑞溢;張宇輝;朱曄新;朱美萍;張偉麗;王建國;孫建;易葵;邵建達
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 上海恒慧知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31317
• 代理人: 張寧展

1.一種光學元件激光損傷閾值的測試方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)搭建元件激光損傷測試的光路，包括激光器、快門、半波片、偏振鏡、微透鏡陣列、元件、CCD、示波器、能量計和光束質量分析儀，所述的激光器輸出的激光光束依次通過所述的快門、半波片、偏振鏡、微透鏡陣列，最終射到所述的元件表面，所述的微透鏡陣列面與所述的激光光束垂直，所述的示波器用于對激光脈寬進行測試，所述的能量計用于測試通過微透鏡陣列后不同光束的激光能量，所述的光束質量分析儀用于測試通過微透鏡陣列后不同光束的激光有效面積，所述的快門用于控制測試激光損傷時激光光束的通過，所述的半波片和偏振片用于控制測試中激光的能量，所述的CCD用于觀察測試時待測元件的損傷情況；

2)所述的微透鏡陣列具有N圈微透鏡，所述的激光光束通過所述的微透鏡陣列在所述的待測元件上形成N圈激光輻照點，其中N為3以上的正整數，在距離中心同一個園圈上的輻照點的激光通量相同，通過調整半波片來調整所述的激光光束的激光能量，同時用所述的CCD觀察測試時所述的待測元件的損傷情況，當最遠離中心的一圈無激光損傷，最靠近中心的一圈到兩圈的輻照點均發生激光損傷時，用能量計測試通過微透鏡陣列后不同光束的激光能量E，利用所述的光束質量分析儀測量通過微透鏡陣列后不同光束的激光有效面積S，則激光通量為F＝E/S；

4)計算同一圈發生損傷的點數比上這一圈能量相等的所有點數為激光損傷概率P；

5)通過對不同距離會聚中心點的損傷概率進行線性擬合得到損傷概率與激光通量的關系，記為P＝aF+b，其中a、b通過擬合獲得；所述的損傷閾值是損傷概率為0時的激光通量。

2.根據權利要求1所述的光學元件激光損傷閾值的測試方法，其特征在于該方法可用于傳統1-on-1激光損傷測試，也可用于S-on-1激光損傷測試。