[發(fā)明專利]滅弧室及滅弧裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011456614.2 | 申請(qǐng)日： | 2020-12-10 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN112509837A | 公開（公告）日： | 2021-03-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張俊;韓暢 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 德力西電氣有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01H9/34 | 分類號(hào)： | H01H9/34 |
| 代理公司： | 溫州甌越專利代理有限公司 33211 | 代理人： | 吳繼道 |
| 地址： | 325600 浙江省溫*** | 國(guó)省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 滅弧室 裝置 | ||
1.一種滅弧室，包括若干滅弧柵片和隔弧板，其特征在于：若干所述滅弧柵片自上而下劃分為位于上方的上柵片組、位于下方的下柵片組，上柵片組中的滅弧柵片的厚度小于下柵片組中的厚度；上柵片組中的滅弧柵片之間的間隙小于下柵片組中的滅弧柵片的間隙。
2.如權(quán)利要求1所述的滅弧室，其特征在于：所述上柵片組中的滅弧柵片的厚度一致；和/或所述下柵片組中的滅弧柵片的厚度一致。
3.如權(quán)利要求2所述的滅弧室，其特征在于：所述上柵片組中的滅弧柵片之間等距設(shè)置；和/或所述下柵片組中的滅弧柵片之間等距設(shè)置。
4.如權(quán)利要求3所述的滅弧室，其特征在于：所述上柵片組中位于最底層的滅弧柵片同所述下柵片組中位于最頂層的滅弧柵片之間的間隙與所述上柵片組中各滅弧柵片之間的間隙相同。
5. 如權(quán)利要求3所述的滅弧室，其特征在于：所述上柵片組中的滅弧柵片的厚度為[1.00mm, 1.20mm)，所述下柵片組中的滅弧柵片的厚度為[1.20mm, 1.40mm)；和/或，所述上柵片組/下柵片組中滅弧柵片之間的間隙較滅弧柵片的厚度大0~0.2mm。
6.如權(quán)利要求3所述的滅弧室，其特征在于：所述上柵片組中的滅弧柵片數(shù)量少于下滅弧柵片的數(shù)量；作為優(yōu)選，上柵片組包括有至少5個(gè)滅弧柵片，下柵片組包括有至少8個(gè)滅弧柵片。
7.如權(quán)利要求1-6任一所述的滅弧室，其特征在于：所述最下層的滅弧柵片與隔弧板鉚接固定；和/或所述隔弧板靠近滅弧室的安裝方向的一側(cè)設(shè)置有倒角結(jié)構(gòu)。
8.如權(quán)利要求7所述的滅弧室，其特征在于：所述上柵片組的上方設(shè)有上引弧片，所述上引弧片最后于上柵片組平行間隔設(shè)置，其與上柵片組之間的間隙最好大于上柵片組中各滅弧柵片之間的間隙。
9.一種滅弧裝置，其特征在于：包括有如權(quán)利要求1-8任一種滅弧室、與滅弧室配合封閉的滅弧罩以及靜觸頭，作為優(yōu)選，所述靜觸頭包括觸頭本體、靜銀點(diǎn)、下引弧片和支架，觸頭本體采用U形設(shè)計(jì)，銀點(diǎn)設(shè)于觸頭本體朝上的上表面上，下引弧片的一端固定于觸頭本體之上、另一端伸至下柵片組的下方與其間隙配合。
10.如權(quán)利要求9所述的滅弧裝置，其特征在于：所述滅弧罩與滅弧室配合安裝的安裝側(cè)頂部設(shè)有供其嵌入的缺口。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于德力西電氣有限公司，未經(jīng)德力西電氣有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011456614.2/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
