[發(fā)明專利]鎓鹽化合物、化學(xué)增幅抗蝕劑組成物、以及圖案形成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011454985.7
• 申請日: 2020-12-10
• 公開（公告）號: CN113045465B
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 藤原敬之;及川健一;小林知洋;福島將大
• 申請（專利權(quán)）人: 信越化學(xué)工業(yè)株式會社
• 主分類號: C07C381/12
• 分類號: C07C381/12;C07D333/76;C07D335/12;C07D327/08;C07D339/08;C07D279/20;C07C25/18;C07C39/367;C07C69/708;C07C43/225;C07D347/00;C07D333/46;C07D335/02
• 代理公司: 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種鎓鹽化合物，由以下式(1)表示；

式中，R¹及R²各自獨立地為氫原子、羥基或碳數(shù)1～12的烴基，該烴基中的氫原子亦可經(jīng)含雜原子的基團取代，該烴基中的-CH₂-亦可經(jīng)-O-或-C(＝O)-取代；又，R¹及R²亦可彼此鍵結(jié)并與它們所鍵結(jié)的碳原子一起形成環(huán)；

R^f1及R^f2各自獨立地為氫原子、氟原子或三氟甲基，但是，至少其中一者為氟原子或三氟甲基；

L¹為單鍵或碳數(shù)1～15的亞烴基，該亞烴基中的-CH₂-亦可經(jīng)-O-或-C(＝O)-取代；

L²為單鍵、醚鍵或酯鍵；

L¹及L²均為單鍵時，R²為羥基、烴基氧基或烴基羰基氧基；

Ar為碳數(shù)3～15的(n+1)價芳香族基團，該芳香族基團的一部分或全部的氫原子亦可被取代基取代；所述取代基為氟原子、羥基或碳數(shù)1～10的烴基，所述烴基的-CH₂-亦可經(jīng)O-或-C(＝O)取代，此外，所述烴基中的-CH₂-亦可鍵結(jié)于所述芳香族基團；

n為符合1≤n≤5的整數(shù)；

M⁺為锍陽離子或錪陽離子。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎓鹽化合物，由以下式(2)表示；

式中，M⁺與前述相同；

n及m為符合1≤n≤5、0≤m≤4及1≤n+m≤5的整數(shù)；

R³為氫原子或亦可含有雜原子的碳數(shù)1～10的烴基；

R⁴為氟原子、羥基或碳數(shù)1～10的烴基，該烴基中的-CH₂-亦可經(jīng)-O-或-C(＝O)-取代；m為2以上時，各R⁴彼此可相同也可不同，2個R⁴亦可彼此鍵結(jié)并與它們所鍵結(jié)的苯環(huán)上的碳原子一起形成環(huán)；

L³為單鍵、醚鍵或酯鍵；

L⁴為單鍵、或碳數(shù)1～10的亞烴基。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鎓鹽化合物，其中，R³為氫原子、異丙基、金剛烷基、苯基、4-氟苯基、4-三氟甲基苯基、4-碘苯基或4-甲氧基苯基。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的鎓鹽化合物，其中，L³及L⁴為單鍵。