[發明專利]一種超大規格低溫設備的異形密封圈及密封結構

在審

• 申請號: 202011451488.1
• 申請日: 2020-12-09
• 公開（公告）號: CN112413125A
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 馬斌;張車寧;張爾卿;賴歡;陳萬華;祝長江;聶旭濤;王元興;鄒大軍;劉小明
• 申請（專利權）人: 中密控股股份有限公司
• 主分類號: F16J15/06
• 分類號: F16J15/06;F16J15/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種超大規格低溫設備的異形密封圈，其特征在于：包括密封圈本體(1)，所述密封圈本體(1)包括多個密封條(11)，所述密封條(11)的一端設置有第一密封部(2)，另一端設置有第二密封部(3)，所述第一密封部(2)與第二密封部(3)相適配，且兩個所述密封條(11)拼接時，所述第一密封部(2)與第二密封部(3)相互疊合設置，且所述密封圈本體(1)外側套設有用于使密封圈本體(1)與設備內部部件緊抵的彈性件(4)。

2.根據權利要求1所述的一種超大規格低溫設備的異形密封圈，其特征在于：所述第一密封部(2)包括第一密封塊(21)，所述第一密封塊(21)與內部部件抵接的面為第一抵接面(211)，所述第一抵接面(211)上開設有第一密封凹槽(22)，所述第一密封槽與第一密封塊(21)相鄰于第一抵接面(211)的面連通，所述第一密封塊(21)上位于第一密封凹槽(22)的一側設置有第一密封凸起(23)；

所述第二密封部(3)包括第二密封塊(31)，所述第二密封塊(31)與內部部件抵接的面為第二抵接面(311)，所述第二抵接面(311)上開設有第二密封凹槽(32)，所述第二密封槽與第二密封塊(31)相鄰于第二抵接面(311)的面連通，且所述第一密封凹槽(22)和第二密封凹槽(32)的位置相錯開，所述第二密封塊(31)位于第二密封凹槽(32)的一側設置有第二密封凸起(33)；

兩個所述密封條(11)相拼接時，所述第一密封凸起(23)插入至第二密封凹槽(32)內，所述第二密封凸起(33)插入至第一密封凹槽(22)內。

3.根據權利要求2所述的一種超大規格低溫設備的異形密封圈，其特征在于：所述第一密封凸起(23)與第一密封塊(21)一體設置，所述第二密封凸起(33)與第二密封塊(31)一體設置。

4.根據權利要求1所述的一種超大規格低溫設備的異形密封圈，其特征在于：所述密封條(11)朝向內部部件的面上設置有迷宮紋。

5.根據權利要求1所述的一種超大規格低溫設備的異形密封圈，其特征在于：所述彈性件(4)為條狀的波形彈簧。

6.根據權利要求1所述的一種超大規格低溫設備的異形密封圈，其特征在于：所述密封圈本體(1)上且位于密封圈本體(1)的外側壁開設有限位槽(12)，所述限位槽(12)沿著密封圈本體(1)的周向設置，所述彈性件(4)位于限位槽(12)內。

7.根據權利要求1所述的一種超大規格低溫設備的異形密封圈，其特征在于：所述密封條(11)、第一密封部(2)和第二密封部(3)一體設置。

8.一種密封結構，包括如權利要求1-7任意一項所述的異形密封圈，其特征在于：還包括密封溝槽(5)，所述密封溝槽(5)與密封圈本體(1)相配合，所述密封圈本體(1)位于密封溝槽(5)內，所述密封溝槽(5)的內壁與彈性件(4)相抵接，所述密封溝槽(5)與密封圈本體(1)安裝在內部部件上。