[發(fā)明專利]一種具有硫組分梯度的銅鋅錫硫硒薄膜的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011448304.6 | 申請日: | 2020-12-09 |
| 公開(公告)號: | CN112563117B | 公開(公告)日: | 2023-06-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王書榮;楊帥;徐信;李新毓;李祥;王亭保 | 申請(專利權(quán))人: | 云南師范大學(xué) |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02;H01L31/0216;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京慕達(dá)星云知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人: | 王攀 |
| 地址: | 650500 云*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 組分 梯度 銅鋅錫硫硒 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種具有硫組分梯度的銅鋅錫硫硒薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)將鈉鈣玻璃放入磁控濺射腔室,沉積雙層鉬背電極;
(2)銅鋅錫硫預(yù)制層薄膜的制備:利用磁控濺射系統(tǒng),采用CuS、Sn和ZnS靶,按ZnS/CuS/Sn/CuS的順序進(jìn)行多周期分步濺射,沉積銅鋅錫硫預(yù)制層薄膜;
(3)銅鋅錫硒薄膜的制備:將所述銅鋅錫硫預(yù)制層薄膜進(jìn)行熱處理,然后將熱處理過的合金層與硒粉一起放入石墨舟,并推入硒化爐中硒化,自然冷卻至室溫后得到銅鋅錫硒薄膜;
(4)具有硫組分梯度的銅鋅錫硫硒薄膜的制備:將所述銅鋅錫硒薄膜和硫粉放入等離子體退火爐中,打開機械泵抽至低真空,同時對薄膜進(jìn)行加熱,然后充入氬氣作為啟輝氣體,當(dāng)真空抽至20Pa以下,打開等離子體設(shè)備進(jìn)行啟輝,待硫粉完全升華后,停止加熱、關(guān)閉等離子體設(shè)備,冷卻,得到具有硫組分梯度的銅鋅錫硫硒薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有硫組分梯度的銅鋅錫硫硒薄膜的制備方法,其特征在于,步驟(1)中所述鈉鈣玻璃放入磁控濺射腔室之前經(jīng)過清洗、吹干,具體步驟如下:
將鈉鈣玻璃分別用去污粉、丙酮和酒精依次超聲清洗,然后用重鎘酸鉀溶液浸泡8-10h,再用去離子水超聲清洗,并用氮氣吹干,備用。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有硫組分梯度的銅鋅錫硫硒薄膜的制備方法,其特征在于,步驟(1)中所述雙層鉬背電極的沉積厚度為1μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有硫組分梯度的銅鋅錫硫硒薄膜的制備方法,其特征在于,步驟(2)中所述銅鋅錫硫預(yù)制層薄膜的沉積厚度為1.2μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有硫組分梯度的銅鋅錫硫硒薄膜的制備方法,其特征在于,Cu、Zn和Sn的摩爾原子比符合以下條件:Cu/Zn+Sn=0.7,Zn/Sn=1。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有硫組分梯度的銅鋅錫硫硒薄膜的制備方法,其特征在于,步驟(3)中所述熱處理在氬氣保護(hù)下進(jìn)行,并且所述熱處理溫度為200℃,時間為30min。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有硫組分梯度的銅鋅錫硫硒薄膜的制備方法,其特征在于,步驟(3)中所述硒化爐以20℃/min的升溫速率從室溫升至540℃,并在540℃下硒化15min。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有硫組分梯度的銅鋅錫硫硒薄膜的制備方法,其特征在于,步驟(4)中所述啟輝功率為100W,退火溫度200℃。
9.一種權(quán)利要求1-8任一項所述的方法制備得到的具有硫組分梯度的銅鋅錫硫硒薄膜。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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