[發明專利]一種圖像數據處理方法、裝置、設備及存儲介質有效
| 申請號: | 202011448029.8 | 申請日: | 2020-12-09 |
| 公開(公告)號: | CN112419145B | 公開(公告)日: | 2023-10-10 |
| 發明(設計)人: | 楊上超;張宇翔;王軼丹;崔寧 | 申請(專利權)人: | 深圳市優必選科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G06T3/00 | 分類號: | G06T3/00;G06T11/60 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 潘登 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 圖像 數據處理 方法 裝置 設備 存儲 介質 | ||
1.一種圖像數據處理方法,其特征在于,所述方法包括:
根據用戶的落筆軌跡點坐標,生成包含目標圖案的第一尺寸的初始繪制圖像;
對所述初始繪制圖像進行光柵化處理,得到像素圖像,其中,所述像素圖像為灰度像素圖像或彩色像素圖像;
將所述像素圖像從第一尺寸縮放到第二尺寸,并對縮放后的像素圖像進行光柵化處理,得到目標繪制圖像。
2.根據權利要求1所述的圖像數據處理方法,其特征在于,所述根據用戶的落筆軌跡點坐標,生成包含目標圖案的第一尺寸的初始繪制圖像,包括:
根據用戶的落筆軌跡點坐標和預設填充尺寸,確定第一尺寸畫板;
根據用戶的落筆軌跡點坐標,在所述第一尺寸畫板中繪制目標圖案,得到包含所述目標圖案的第一尺寸的初始繪制圖像。
3.根據權利要求2所述的圖像數據處理方法,其特征在于,所述確定第一尺寸畫板之后,還包括:
根據所述第一尺寸畫板的邊長,確定目標圖案的線條繪制寬度;
相應的,根據用戶的落筆軌跡點坐標,在所述第一尺寸畫板中繪制目標圖案,得到包含所述目標圖案的第一尺寸的初始繪制圖像,包括:
根據用戶的落筆軌跡點坐標和所述線條繪制寬度,在所述第一尺寸畫板中繪制目標圖案,得到包含所述目標圖案的第一尺寸的初始繪制圖像。
4.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,根據所述第一尺寸畫板的邊長,確定目標圖案的線條繪制寬度,包括:
若所述第一尺寸畫板的邊長小于或等于第一閾值,則所述目標圖案的線條繪制寬度為第一寬度值;
若所述第一尺寸畫板的邊長大于所述第一閾值,則根據畫板邊長與線條寬度之間的比例關系,確定所述目標圖案的線條繪制寬度。
5.根據權利要求1所述的圖像數據處理方法,其特征在于,所述對所述初始繪制圖像進行光柵化處理,得到像素圖像,包括:
對所述初始繪制圖像進行光柵化處理,得到彩色像素圖像;
對所述彩色像素圖像進行灰度處理,得到灰度像素圖像。
6.根據權利要求1-5任一所述的圖像數據處理方法,其特征在于,所述方法還包括:
將所述目標繪制圖像作為訓練樣本,訓練繪畫類別識別模型。
7.一種圖像數據處理裝置,其特征在于,所述裝置包括:
初始圖像生成模塊,用于根據用戶的落筆軌跡點坐標,生成包含目標圖案的第一尺寸的初始繪制圖像;
像素圖像生成模塊,用于對所述初始繪制圖像進行光柵化處理,得到像素圖像,其中,所述像素圖像為灰度像素圖像或彩色像素圖像;
目標圖像生成模塊,用于將所述像素圖像從第一尺寸縮放到第二尺寸,并對縮放后的像素圖像進行光柵化處理,得到目標繪制圖像。
8.根據權利要求7所述的圖像數據處理裝置,其特征在于,所述初始圖像生成模塊還用于:
根據用戶的落筆軌跡點坐標和預設填充尺寸,確定第一尺寸畫板;
根據用戶的落筆軌跡點坐標,在所述第一尺寸畫板中繪制目標圖案,得到包含所述目標圖案的第一尺寸的初始繪制圖像。
9.一種電子設備,其特征在于,所述電子設備包括:
一個或多個處理器;
存儲裝置,用于存儲一個或多個程序;
當所述一個或多個程序被所述一個或多個處理器執行,使得所述一個或多個處理器實現如權利要求1-6中任一所述的圖像數據處理方法。
10.一種計算機可讀存儲介質,其上存儲有計算機程序,其特征在于,該程序被處理器執行時實現如權利要求1-6中任一所述的圖像數據處理方法。
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