[發(fā)明專(zhuān)利]一種顯示面板及顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011447510.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112394553A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-02-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王海軍;江淼;張?chǎng)?/a>;姚江波 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02F1/13 | 分類(lèi)號(hào): | G02F1/13 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 杜蕾 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:
基板,所述基板包括相對(duì)設(shè)置的第一面和第二面;
陣列層,所述陣列層設(shè)置在所述第一面上,所述陣列層包括光感器件、開(kāi)關(guān)器件和電容器件,所述光感器件與所述開(kāi)關(guān)器件相鄰設(shè)置,所述電容器件位于所述光感器件的一側(cè),且與所述光感器件具有間隔,或者所述電容器件位于所述開(kāi)關(guān)器件的一側(cè),且與所述開(kāi)關(guān)器件具有間隔;
光選擇層,所述光選擇層設(shè)置在所述陣列層遠(yuǎn)離所述第一面的一側(cè),所述光選擇層至少對(duì)應(yīng)覆蓋所述光感器件,所述光選擇層選擇透過(guò)的光線(xiàn)為激光;
第一光阻層,所述第一光阻層設(shè)置在所述光選擇層遠(yuǎn)離所述第一面的一側(cè),所述第一光阻層對(duì)應(yīng)覆蓋所述開(kāi)關(guān)器件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述光選擇層對(duì)應(yīng)覆蓋所述光感器件、所述開(kāi)關(guān)器件和所述電容器件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述光選擇層還設(shè)置在所述基板與所述陣列層之間,且所述光選擇層對(duì)應(yīng)覆蓋所述光感器件和所述開(kāi)關(guān)器件。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板,其特征在于,還包括第二光阻層,所述第二光阻層至少對(duì)應(yīng)所述光感器件和所述開(kāi)關(guān)器件設(shè)置,所述第二光阻層設(shè)置在靠近所述第一面的一側(cè)的所述光選擇層與所述第一面之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的顯示面板,其特征在于,所述光選擇層透過(guò)激光的波長(zhǎng)范圍為100nm至1400nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板,其特征在于,所述光選擇層包括兩層以上子光選擇層,不同所述子光選擇層選擇透過(guò)的光線(xiàn)波長(zhǎng)范圍不同。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板,其特征在于,所述光選擇層包括層疊設(shè)置的第一子光選擇層和第二子光選擇層,所述第一子光選擇層透過(guò)激光的波長(zhǎng)范圍為760nm至1100nm,所述第二子光選擇層透過(guò)激光的波長(zhǎng)范圍為100nm至400nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的顯示面板,其特征在于,還包括背光層、粘合層和蓋板,所述背光層設(shè)置在所述第二面,所述粘合層設(shè)置在所述陣列層遠(yuǎn)離所述第一面的一側(cè),且所述粘合層覆蓋所述陣列層,所述蓋板設(shè)置在所述粘合層遠(yuǎn)離所述第一面的一側(cè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的顯示面板,其特征在于,所述光選擇層采用的材料包括聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯和聚丙烯中的一種或多種。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括一種顯示面板,所述顯示面板為權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的顯示面板。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線(xiàn)性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線(xiàn)性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線(xiàn)性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





