[發明專利]顯影濃度控制系統的脫氣裝置、方法及顯影濃度控制系統在審
| 申請號： | 202011447280.2 | 申請日： | 2020-12-09 |
| 公開（公告）號： | CN112604324A | 公開（公告）日： | 2021-04-06 |
| 發明（設計）人： | 韋智強 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號： | B01D19/00 | 分類號： | B01D19/00;B01D19/02;F04B45/04 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人： | 楊艇要 |
| 地址： | 518132 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 顯影 濃度 控制系統 脫氣 裝置 方法 | ||
1.一種顯影濃度控制系統的脫氣裝置(1)，其特征在于，包括脫氣模塊(11)、聯動閥門(12)、隔膜真空泵(13)，
所述脫氣模塊(11)通過管道連接采樣泵(2)，接收采樣泵(2)傳輸的顯影液樣本，所述脫氣模塊(11)連接顯影液濃度監測模塊(3)并將脫氣處理后的顯影液傳輸給所述顯影液濃度監測模塊(3)；
所述聯動閥門(12)設置于連接所述脫氣模塊(11)和所述隔膜真空泵(13)的管道上，當所述隔膜真空泵(13)停止時所述聯動閥門(12)開啟使得所述脫氣模塊(11)和所述聯動閥門(12)之間的管道失去真空狀態，當所述隔膜真空泵(13)啟動時所述聯動閥門(12)關閉。
2.根據權利要求1所述的顯影濃度控制系統的脫氣裝置，其特征在于，所述聯動閥門(12)為定時閥。
3.一種顯影濃度控制系統(5)，其特征在于，包括脫氣裝置(1)、采樣泵(2)、顯影液濃度監測模塊(3)；
所述采樣泵(2)通過管道連接顯影液盒(4)并從顯影液盒(4)抽取顯影液樣本；
所述脫氣裝置(1)包括脫氣模塊(11)、聯動閥門(12)、隔膜真空泵(13)，
所述脫氣模塊(11)通過管道連接采樣泵(2)，接收采樣泵(2)傳輸的顯影液樣本，所述脫氣模塊(11)連接顯影液濃度監測模塊(3)并將脫氣處理后的顯影液傳輸給所述顯影液濃度監測模塊(3)，
所述聯動閥門(12)設置于連接所述脫氣模塊(11)和所述隔膜真空泵(13)的管道上，當所述隔膜真空泵(13)停止時所述聯動閥門(12)開啟使得所述脫氣模塊(11)和所述聯動閥門(12)之間的管道失去真空狀態，當所述隔膜真空泵(13)啟動時所述聯動閥門(12)關閉；
所述顯影液濃度監測模塊(3)監測顯影液濃度。
4.根據權利要求3所述的顯影濃度控制系統，其特征在于，所述顯影液濃度監測模塊(3)包括TMAH濃度監測裝置。
5.根據權利要求3所述的顯影濃度控制系統，其特征在于，所述顯影液濃度監測模塊(3)包括吸光度計。
6.根據權利要求3所述的顯影濃度控制系統，其特征在于，所述顯影液濃度監測模塊(3)通過超聲波方法監測顯影液TMAH濃度。
7.根據權利要求3所述的顯影濃度控制系統，其特征在于，所述顯影液濃度監測模塊(3)通過檢測顯影液的導電率監測顯影液TMAH濃度。
8.根據權利要求3-7任意一項所述的顯影濃度控制系統，其特征在于，所述聯動閥門(12)為定時閥。
9.一種顯影濃度控制系統的脫氣方法，其特征在于，包括步驟：
獲取隔膜真空泵的工作狀態，其中所述工作狀態包括啟動狀態和停止狀態；
在所述工作狀態為停止狀態時，控制聯動閥門關閉使得所述脫氣模塊和聯動閥門之間的管道失去真空狀態，其中所述聯動閥門設置于連接脫氣模塊和隔膜真空泵之間的管道上；
在所述工作狀態為啟動狀態時，控制所述聯動閥門關閉。
10.根據權利要求9所述的顯影濃度控制系統的脫氣方法，其特征在于，所述聯動閥門為定時閥。
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