[發明專利]一種將曝光平面對準成像平面的方法

在審

• 申請號: 202011442267.8
• 申請日: 2020-12-08
• 公開（公告）號: CN112485983A
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發明（設計）人: 衛榮漢;豆麗莎;杜夏瑢;高秋磊;許雁雅
• 申請（專利權）人: 鄭州大學
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種將曝光平面對準成像平面的方法，其特征在于：由于基板或放置基板的位移載臺傾斜造成，曝光平面范圍或所放置曝光基板的最大邊緣處多設定點與原對準成像平面的距離誤差，作為細部估算每一步進曝光點與原對準成像平面的距離誤差方法，進而作為成像平面對準的補償。

2.根據權利要求1所述的一種將曝光平面對準成像平面的方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1：用微納精度的測距系統測量曝光平面范圍或所放置曝光基板的最大邊緣處m個設定點的距離，得到m個設定點與原對準成像平面的距離誤差為Qm，其中m＝1,2,…,m(m為正整數)；

步驟2：通過將m個設定點(Xm,Ym)座標對應的距離誤差Qm進行運算得到每一步進曝光點(Xn,Yn)對應位置的距離誤差值Pn，將每一步進曝光點的距離誤差值Pn加上原對準成像平面與光源的距離P，得到各個步進曝光點對應精微修正后的曝光對準距離P+Pn，其中n＝1,2,…,n(n為正整數)；

步驟3：在步進曝光流程中，將每一步進曝光點精微修正后的曝光對準距離P+Pn，輸入步進光刻設備中，作為設備調整每一步進曝光點對準距離的依據。

3.根據權利要求2所述的一種將曝光平面對準成像平面的方法，其特征在于：所述用測量曝光平面范圍的最大邊緣處m個設定點的距離作為估算對準距離誤差，則可以修正曝光平面載臺傾斜所造成的誤差；所述用所放置曝光基板的最大邊緣處m個設定點的距離作為估算對準距離誤差，則可以修正因曝光基板吸附曝光平面載臺的吸力不均所造成的基板傾斜誤差。

4.根據權利要求2所述的一種將曝光平面對準成像平面的方法，其特征在于：所述微納精度的測距系統采用基于聲學及光學的非接觸式測距方式，如反射能量法、超聲時間法、雙象比較法、位置敏感器件測距法、光學探針法、光切法、干涉法、圖像處理等，但不僅限于此。

5.根據權利要求2所述的一種將曝光平面對準成像平面的方法，其特征在于：在放置基板的載臺平面上定義X軸與Y軸，以此確定多設定點的位置，并定義Z軸且原對準成像平面處的Z軸坐標為0，即可得到多組設定點的實際X、Y、Z坐標，以此運算每一步進曝光點X、Y位置對應的Z軸坐標值，即為距離誤差值運算方法。

6.根據權利要求2所述的一種將曝光平面對準成像平面的方法，其特征在于：在系統對曝光基板進行初始第一個步進曝光點的光學精密聚焦之后，作為原對準成像平面，可通過估算精微修正的曝光對準距離來取代光學的精密聚焦方式，達到快速修正成像平面對準的目的。