[發(fā)明專利]粒子支架劑量分布計算方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011440439.8 | 申請日： | 2020-12-08 |
| 公開（公告）號： | CN112587808B | 公開（公告）日： | 2022-03-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉博;熊天宇;周付根 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京航空航天大學(xué) |
| 主分類號： | G01T1/02 | 分類號： | G01T1/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100191*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 粒子 支架 劑量 分布 計算方法 | ||
1.一種粒子支架劑量分布計算方法，所述粒子支架攜帶放射性粒子，其特征在于，包括：
建立所述粒子支架的三維模型，在所述三維模型中預(yù)置若干放射性粒子的安裝位置；
將單個放射性粒子設(shè)置在預(yù)置的安裝位置，利用蒙特卡羅仿真，計算所述單個放射性粒子在包含粒子支架三維模型時水模空間中的劑量分布Ds(x，y，z)，其中x，y，z為所述水模空間的坐標(biāo)值，坐標(biāo)原點位于所述單個放射性粒子中心，z軸與所述單個放射性粒子縱軸重合；
利用蒙特卡羅仿真，計算所述單個放射性粒子在無粒子支架三維模型時的水模空間中劑量分布Dw(x，y，z)；
利用TG-43方法計算所述單個放射性粒子在水模中劑量分布
計算所述單個放射性粒子在水模中的劑量分布修正值
根據(jù)所述粒子支架的結(jié)構(gòu)，利用線性插值計算放射性粒子在預(yù)置安裝位置的修正系數(shù)Ds(x，y，z)/Dw(x，y，z)，具體計算方式為，由于所述粒子支架相對于其縱軸上的中心截面具有對稱性，所述縱軸方向上關(guān)于中心截面對稱的兩個預(yù)置安裝位置處的放射性粒子修正系數(shù)Ds(x，y，z)/Dw(x，y，z)是一致的，所以通過計算所述中心截面一側(cè)間隔一定距離處放射性粒子修正系數(shù)，然后獲得已計算所述修正系數(shù)的預(yù)置安裝位置關(guān)于中心截面對稱位置的修正系數(shù)，進而基于線性插值獲得所述放射性粒子縱軸方向上任意位置處的修正系數(shù)Ds(x，y，z)/Dw(x，y，z)；
繼續(xù)計算所述三維模型中其它安裝位置單個粒子的劑量分布，累加所有所述安裝位置單個粒子的劑量分布。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京航空航天大學(xué)，未經(jīng)北京航空航天大學(xué)許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011440439.8/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
