[發(fā)明專利]一種無擾動(dòng)取樣的沉積物原位修復(fù)模擬裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011439670.5 | 申請日: | 2020-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN112697493B | 公開(公告)日: | 2021-12-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 范文宏;趙晴;李曉敏 | 申請(專利權(quán))人: | 北京航空航天大學(xué) |
| 主分類號: | G01N1/04 | 分類號: | G01N1/04 |
| 代理公司: | 北京海虹嘉誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11129 | 代理人: | 朱亞娜;吳小燦 |
| 地址: | 100191*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 擾動(dòng) 取樣 沉積物 原位 修復(fù) 模擬 裝置 方法 | ||
1.一種無擾動(dòng)取樣的沉積物原位修復(fù)模擬裝置,其特征在于,包括反應(yīng)裝置和取樣裝置,所述反應(yīng)裝置包括反應(yīng)器本體和用于使所述反應(yīng)器本體的底面懸空的反應(yīng)器放置架,所述反應(yīng)器本體包括上層容器和下層容器,所述上層容器內(nèi)部從上至下至少設(shè)有兩層相互平行的取樣裝置定位架,所述取樣裝置定位架設(shè)有若干取樣裝置定位孔,所述下層容器的底部設(shè)有若干取樣孔,所述取樣裝置穿過所述取樣裝置定位孔后,其軸線與所述取樣孔的軸線相重合;所述取樣裝置包括固定套筒、取樣套筒和取樣柱,所述固定套筒的外徑與所述取樣裝置定位孔直徑相同且內(nèi)徑大于所述取樣孔的直徑,所述取樣套筒的外徑稍小于所述固定套筒的內(nèi)徑,所述取樣柱的直徑稍小于所述取樣套筒的內(nèi)徑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無擾動(dòng)取樣的沉積物原位修復(fù)模擬裝置,其特征在于,所述上層容器與下層容器通過密封法蘭對接固定。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無擾動(dòng)取樣的沉積物原位修復(fù)模擬裝置,其特征在于,還包括多個(gè)密封螺栓,所述取樣孔為與密封螺栓相匹配的密封螺紋孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無擾動(dòng)取樣的沉積物原位修復(fù)模擬裝置,其特征在于,所述上層容器的頂部設(shè)有可拆卸密封法蘭蓋,所述可拆卸密封法蘭蓋上設(shè)有進(jìn)氣孔、出氣孔和電極放置孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無擾動(dòng)取樣的沉積物原位修復(fù)模擬裝置,其特征在于,還包括固定件密封于所述電極放置孔內(nèi)的電極設(shè)備,所述電極設(shè)備包括用于測定環(huán)境指標(biāo)的電極,所述環(huán)境指標(biāo)包括體系pH值、氧化還原電位和電導(dǎo)率。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無擾動(dòng)取樣的沉積物原位修復(fù)模擬裝置,其特征在于,所述取樣裝置定位架為與所述上層容器內(nèi)壁連接的且與所述下層容器底部平行的圓形板,所述取樣裝置定位孔在所述圓形板上中心對稱設(shè)置,且每層所述取樣裝置定位架上設(shè)置的取樣裝置定位孔的軸線與上下對應(yīng)的所述取樣孔的軸線相互重合。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的無擾動(dòng)取樣的沉積物原位修復(fù)模擬裝置,其特征在于,所述固定套筒的長度至少高于反應(yīng)器本體內(nèi)上覆水的高度且低于所述反應(yīng)器本體的高度,所述取樣套筒和取樣柱的長度稍高于所述固定套筒的長度,所述取樣柱上標(biāo)注有刻度,以精確取出相應(yīng)深度的沉積物進(jìn)行分析。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的無擾動(dòng)取樣的沉積物原位修復(fù)模擬裝置,其特征在于,所述反應(yīng)器放置架的懸空水平底面設(shè)置有與所述下層容器底部設(shè)置的取樣孔分布一致且直徑大于取樣孔的圓孔,且所述懸空水平底面的周圍向上延伸有環(huán)繞所述反應(yīng)器本體的護(hù)欄。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無擾動(dòng)取樣的沉積物原位修復(fù)模擬裝置,其特征在于,還包括虹吸裝置。
10.一種無擾動(dòng)取樣的沉積物原位修復(fù)模擬方法,其特征在于,使用權(quán)利要求1-9之一所述的無擾動(dòng)取樣的沉積物原位修復(fù)模擬裝置進(jìn)行模擬實(shí)驗(yàn),包括如下步驟,
步驟一、將所述下層容器放置于所述反應(yīng)器放置架上,在所述下層容器內(nèi)置入污染沉積物,或?qū)⒊练e物放置于所述下層容器內(nèi)后,一起置于所述反應(yīng)器放置架上;按照密封要求將上層容器與下層容器裝配到一起,并充入適量的上覆水后,在密閉的反應(yīng)器本體中進(jìn)行沉積物原位修復(fù);
步驟二、需要取樣時(shí),打開所述反應(yīng)器本體的可拆卸密封法蘭蓋,將所述固定套筒依次通過所述上層容器內(nèi)壁所連接的取樣裝置定位架上設(shè)置的取樣裝置定位孔,插入下層容器的沉積物中,直至所述下層容器的底部;所述固定套筒的底部剛好被上下布置的至少兩個(gè)取樣裝置定位孔固定在所述下層容器底部的對應(yīng)取樣孔位置;
步驟三、利用所述虹吸裝置取出步驟二中所述固定套筒中的上覆水;
步驟四、將所述取樣套筒插設(shè)于所述固定套筒直至所述下層容器的底部;
步驟五、打開所述固定套筒所在位置對應(yīng)的取樣孔;
步驟六、將用于儲存沉積物樣品的樣品容器放于所述反應(yīng)器放置架的下方,并對準(zhǔn)該打開的取樣孔,將所述取樣柱插入所述取樣套筒,到達(dá)取樣套筒內(nèi)沉積物表面后,繼續(xù)向下緩慢推進(jìn)所述取樣柱,將所述沉積物按照刻度依次推出,并依次落入相應(yīng)的所述樣品容器;
步驟七、使用橡膠塞或密封螺栓堵住所述取樣孔;并將所述取樣套筒和取樣柱從上方取出,將所述固定套筒保留在原處,以防止周圍沉積物塌陷,使該取樣過程對反應(yīng)器本體內(nèi)部的其余沉積物反應(yīng)過程沒有擾動(dòng),進(jìn)而對后續(xù)實(shí)驗(yàn)不產(chǎn)生干擾。
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