[發明專利]一種顯示基板的制備方法、顯示基板及顯示裝置

有效

• 申請號: 202011438605.0
• 申請日: 2020-12-10
• 公開（公告）號: CN112582569B
• 公開（公告）日: 2022-12-06
• 發明（設計）人: 宮奎;張志海;田維;錢穎
• 申請（專利權）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319
• 代理人: 李娜

1.一種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板包括開孔區域、圍繞所述開孔區域的邊緣區域以及圍繞所述邊緣區域的顯示區域，所述邊緣區域的顯示基板包括：

襯底基板，以及設置在所述襯底基板一側的平坦層；

設置在所述平坦層背離所述襯底基板一側的隔離墻和有機功能層，所述有機功能層在所述隔離墻的側面斷開；所述有機功能層包括層疊設置的空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層和電子注入層；

其中，所述隔離墻的材料包括發生膨脹形變和交聯反應的光致形變材料；層疊設置在所述隔離墻和所述有機功能層背離所述襯底基板一側的陰極層和封裝層，所述陰極層靠近所述襯底基板設置，所述陰極層以及所述封裝層在所述隔離墻的側面斷開；

通過特定波長的光線照射設置在所述平坦層背離所述襯底基板一側的隔離柱，使所述隔離柱發生膨脹形變，在膨脹形變的過程中會對所述有機功能層、所述陰極層以及所述封裝層施加一個向上的膨脹拉扯力，使所述有機功能層、所述陰極層以及所述封裝層在膨脹后的隔離柱兩側發生斷裂；再對發生膨脹形變后的隔離柱進行高溫退火，使所述發生膨脹形變后的隔離柱發生交聯反應，獲得發生膨脹形變以及交聯反應的光致形變材料，形成所述隔離墻。

2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述隔離墻凸出所述封裝層的高度大于或等于0.5微米且小于或等于2微米。

3.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述平坦層包括堤部和平坦部，在所述堤部和所述平坦部背離所述襯底基板的一側均設置有所述隔離墻。

4.根據權利要求1至3任一項所述的顯示基板，其特征在于，所述光致形變材料包括光敏液晶高彈體、具有光致應力釋放的光敏材料和PLZT陶瓷材料中的至少一種。

5.根據權利要求4所述的顯示基板，其特征在于，所述光致形變材料包括偶氮苯基聚合物，所述偶氮苯基聚合物的分子量大于或等于5000且小于或等于8000。

6.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1至5任一項所述的顯示基板。

7.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，所述顯示基板包括開孔區域、圍繞所述開孔區域的邊緣區域以及圍繞所述邊緣區域的顯示區域，所述邊緣區域的顯示基板的制備方法包括：

提供襯底基板；

在所述襯底基板的一側形成平坦層；

在所述平坦層背離所述襯底基板的一側形成隔離柱和有機功能層，其中，所述隔離柱的材料包括發生膨脹形變和交聯反應的光致形變材料；所述有機功能層包括層疊設置的空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層和電子注入層；

在所述有機功能層背離所述襯底基板的一側依次形成陰極層和封裝層；

通過特定波長的光線照射所述隔離柱，使所述隔離柱發生膨脹形變，在膨脹形變的過程中會對所述有機功能層、所述陰極層以及所述封裝層施加一個向上的膨脹拉扯力，使所述有機功能層、所述陰極層以及所述封裝層在膨脹后的隔離柱兩側發生斷裂；再對發生膨脹形變后的隔離柱進行高溫退火，使所述發生膨脹形變后的隔離柱發生交聯反應，獲得發生膨脹形變以及交聯反應的光致形變材料，形成隔離墻。

8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述在所述平坦層背離所述襯底基板的一側形成隔離柱的步驟，包括：

在所述平坦層背離所述襯底基板的一側涂覆前驅體溶液薄膜；

對所述前驅體溶液薄膜進行高溫固化處理，形成隔離膜層；

采用構圖工藝，對所述隔離膜層進行處理，形成所述隔離柱；

其中，所述前驅體溶液包括所述光致形變材料。

9.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述光致形變材料為偶氮苯基聚合物，所述前驅體溶液還包括：交聯劑、預聚合物單體、固化劑、引發劑、添加劑和溶劑。

10.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述隔離柱的高度大于或等于3微米且小于或等于10微米。

11.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述隔離柱環繞所述開孔區域設置，沿所述隔離柱環繞所述開孔區域的方向，所述隔離柱的橫截面在所述襯底基板上的正投影尺寸大于或等于10微米且小于或等于50微米。