[發明專利]可校正振鏡打標偏移的雷射打標系統

在審

• 申請號: 202011437072.4
• 申請日: 2020-12-10
• 公開（公告）號: CN114054966A
• 公開（公告）日: 2022-02-18
• 發明（設計）人: 黃紹甫;鄭暉騰
• 申請（專利權）人: 翊誠科技（深圳）有限公司
• 主分類號: B23K26/362
• 分類號: B23K26/362;B23K26/08;B23K26/03;B23K26/70
• 代理公司: 北京匯智英財專利代理事務所(普通合伙) 11301
• 代理人: 鄭玉潔

1.一種可校正振鏡打標偏移的雷射打標系統，包含：

至少一雷射打標機；各雷射打標機所發出的雷射光束可以投射到一打標物件上，從而在該打標物件呈現打標的圖形；其中各雷射打標機配置有用于在X、Y軸方向移動到所需要的打標點打標振鏡；

一滑臺，其中該打標物件置于該滑臺上；該滑臺移動到所需要的打標點，以接受該雷射打標機所投射的雷射光束而打標；該滑臺由一馬達系統控制，以該馬達系統將該滑臺移動到適合打標的位置；

至少一雷射打標控制器，其中各雷射打標機配置一對應的雷射打標控制器；該雷射打標控制器接收準備打標的坐標資料，并控制對應的該雷射打標機、該馬達系統及該滑臺，以在該打標物件上進行所需要的打標作業；

一可標示出整個打標空間的二維圖形并接收一輸入的打標圖形的電腦裝置，根據該打標圖形在二維空間的幾何位置，計算出該打標圖形對應該二維空間的點坐標；該電腦裝置將二維空間的點坐標向外傳送到該雷射打標控制器以控制該雷射打標機進行打標作業；以及

一打標校正機構連接該至少一雷射打標控制器；該打標校正機構依據該至少一雷射打標機的加工范圍規劃出對應的至少一校正規劃圖，該校正規劃圖為矩形的二維圖形或是一個二維圖形的各線的交叉點所形成的點矩陣圖；該打標校正機構將各校正規劃圖傳送到對應的雷射打標控制器以控制對應的雷射打標機在該打標物件上形成打標后的校正打標圖，并對該打標物件上的各校正打標圖進行攝像，比對所攝得的各校正打標圖與原先對應的校正規劃圖之間的誤差，根據該誤差校正該打標圖形所對應的點坐標，以校正各雷射打標機的打標位置。

2.如權利要求1所述的可校正振鏡打標偏移的雷射打標系統，其特征在于，該打標校正機構包含：

一校正圖樣產生器，依據該至少一雷射打標機的加工范圍規劃出對應的該至少一校正規劃圖；其中該校正規劃圖的數量對應到該雷射打標機的數量，每一雷射打標機有一對應的校正規劃圖；該校正圖樣產生器將各校正規劃圖的坐標輸入對應的雷射打標控制器，以令對應的雷射打標機對該打標物件進行打標；

一用于對該打標物件上的各校正打標圖進行攝像，并將所攝得的影像圖形向外傳送攝影機，其中該影像圖形包含各雷射打標機在該打標物件產生的該校正打標圖；其中校正打標圖為各雷射打標機依據對應的校正規劃圖在該打標物件上打標后實際上的打標圖；

一比對器連接該校正圖樣產生器及該攝影機，該比對器接收該攝影機所攝得的影像圖形；其中該影像圖形中所包含的該校正打標圖的數量對應到該雷射打標機的數量；該比對器依據該影像圖形的各校正打標圖及該校正圖樣產生器所對應的原先規畫的校正規劃圖，計算兩者的對應點之間的誤差，并將該誤差向外傳送；以及

一校正器連接該比對器，該校正器依據該比對器所傳送的誤差，校正該打標圖形所對應的點坐標，并將校正后的坐標資料傳送到該雷射打標機以進行打標；當有多個雷射打標機時，則必須對于各該雷射打標機的校正規劃圖進行校對，并將校對的結果輸出到對應的雷射打標控制器，以校正對應的雷射打標機的打標位置。

3.如權利要求2所述的可校正振鏡打標偏移的雷射打標系統，其特征在于，當該至少一雷射打標機的加工范圍有重疊時，該校正器也對重疊部分進行校對與拼接，并將校對及拼接的結果輸出到對應的雷射打標控制器。

4.如權利要求1所述的可校正振鏡打標偏移的雷射打標系統，其特征在于，該矩形的二維圖形包括多條X方向及Y方向的線。

5.如權利要求2所述的可校正振鏡打標偏移的雷射打標系統，其特征在于，至少一該雷射打標機為單一個雷射打標機，且該校正圖樣產生器產生單一個校正規劃圖。

6.如權利要求2所述的可校正振鏡打標偏移的雷射打標系統，其特征在于，該至少一雷射打標機為多個雷射打標機，且該校正圖樣產生器產生多個校正規劃圖。

7.如權利要求4所述的可校正振鏡打標偏移的雷射打標系統，其特征在于，該校正規劃圖為矩形的二維圖形，且該校正規劃圖的X軸線與Y軸線越密時，則誤差越小，所得到的打標后的圖形越接近原來規劃的該打標圖形。

8.如權利要求2所述的可校正振鏡打標偏移的雷射打標系統，其特征在于，該校正圖樣產生器、該比對器及該校正器位于該電腦裝置中。